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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2018-10-03 13:30 有機金属分解(MOD)法によるTiO2分散型VOx薄膜の作製 ○ヴァン ニュ ハイ・前田幸平（防衛大）・河原正美・佐村 剛（高純度化学研）・立木 隆・内田貴司（防衛大）  CPM2018-37 |
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| 抄録 | （和） | 広い温度範囲で動作する高感度なボロメータ検出素子の実現を目指し，MOD 法により Ti のモル比 (xm) を変化させて作製した TiO2-V2O5 プリカーサ薄膜を焼成して得られた薄膜の特性を評価した．プリカーサ薄膜 を酸素雰囲気中で焼成した薄膜を XPS で評価したところ，V2O5 中に TiO2 ナノ粒子が混在していることがわかり， 得られた薄膜は TiO2分散型の V2O5薄膜であった．xm = 10 %以上にすると薄膜表面にアナターゼ型の TiO2 による析 出物が現れた．さらに，同薄膜を Pa = 1.2 Pa の減圧下で熱還元焼成して得られた薄膜の R-T 特性は VO2(M)特有の 相転移特性を示し，xmが高くなるにつれて抵抗変化量ならびにヒステリシス温度幅が減少する傾向が得られた． |
| （英） | To realize a bolometer detector with a high responsivity operating in a wide temperature range, we fabricated thin films by firing TiO2-V2O5 precursor films with changing the molar ratio of Ti/V (xm) by MOD. From the measurement of XRD for the films obtained by firing the precursor films in O2 atmosphere, it was found that TiO2 nanoparticles were coexisted in V2O5 and that the obtained films were TiO2-dispersed V2O5 films. Precipitates of TiO2 were observed on the surface of the film for the xm higher than 10 %. Then, these films were thermally reduced by the heat treatment under a low pressure of 1.2 Pa. The R-T characteristics of the films indicated the phase transition specified with VO2(M) and the resistance change and the hysteresis loop width decreased with increasing xm. |
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| キーワード | （和） | 有機金属分解法 / VO2薄膜 / TiO2分散型薄膜 / / / / / |
| （英） | MOD / VO2 thin films / TiO2-dispersed thin films / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 118, no. 228, CPM2018-37, pp. 1-6, 2018年10月. | |
| 資料番号 | CPM2018-37 | |
| 発行日 | 2018-09-26 (CPM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | CPM2018-37 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
| 開催期間 | 2018-10-03 - 2018-10-03 |
| 開催地（和） | 機械振興会館 |
| 開催地（英） | Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. |
| テーマ（和） | 電子材料・光記録技術、一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2018-10-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 有機金属分解(MOD)法によるTiO2分散型VOx薄膜の作製 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Fabrication of TiO2-dispersed VOx thin films by MOD |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 有機金属分解法 / MOD |
| キーワード(2)（和/英） | VO2薄膜 / VO2 thin films |
| キーワード(3)（和/英） | TiO2分散型薄膜 / TiO2-dispersed thin films |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | ヴァン ニュ ハイ / Van Nhu Hai / |
| 第1著者 所属（和/英） | 防衛大学校 (略称： 防衛大) National Defense Academy (略称： NDA) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 前田 幸平 / Kohei Maeda / マエダ コウヘイ |
| 第2著者 所属（和/英） | 防衛大学校 (略称： 防衛大) National Defense Academy (略称： NDA) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 河原 正美 / Masami Kawahara / カワハラ マサミ |
| 第3著者 所属（和/英） | 高純度化学研究所 (略称： 高純度化学研) Kojundo Chemical Labotary (略称： Kojundo Chemical Lab) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 佐村 剛 / Tsuyoshi Samura / サムラ ツヨシ |
| 第4著者 所属（和/英） | 高純度化学研究所 (略称： 高純度化学研) Kojundo Chemical Labotary (略称： Kojundo Chemical Lab) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 立木 隆 / Takashi Tachiki / タチキ タカシ |
| 第5著者 所属（和/英） | 防衛大学校 (略称： 防衛大) National Defense Academy (略称： NDA) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 内田 貴司 / Takashi Uchida / ウチダ タカシ |
| 第6著者 所属（和/英） | 防衛大学校 (略称： 防衛大) National Defense Academy (略称： NDA) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2018-10-03 13:30:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | CPM2018-37 |
| 巻番号（vol） | vol.118 |
| 号番号（no） | no.228 |
| ページ範囲 | pp.1-6 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2018-09-26 (CPM) |
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