講演抄録/キーワード |
講演名 |
2018-11-01 14:25
室温ZnO ALDの表面反応観察 ○吉田一樹・齋藤健太郎・三浦正範・鹿又健作・廣瀬文彦(山形大) CPM2018-44 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2018-44 |
抄録 |
(和) |
酸化亜鉛(Zinc oxide: ZnO)は可視光域での高透過率、低抵抗、無毒の特徴を持つ。このため透明導電膜、UV-LED、ガスセンサ、圧電素子材料として研究されている。近年ではガスバリア材料としても期待されている。我々はジメチル亜鉛(Dimethylzinc: DMZ)とプラズマ励起加湿アルゴンを用いた原子層堆積法によって、Si基板表面にZnOを室温で形成した。成膜時の反応を多重内部反射型赤外吸収分光法(MIR-IRAS)によってその場観察することで成膜プロセスの検討を行った。得られた薄膜をXPSで分析した結果、ZnOの存在を確認した。またこのときの成長膜厚は0.046 nm/cycleであった。本論では表面反応機構について議論する。 |
(英) |
(Not available yet) |
キーワード |
(和) |
原子層堆積法 / プラズマ励起加湿アルゴン / ZnO / 赤外吸収分光法 / ジメチル亜鉛 / / / |
(英) |
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文献情報 |
信学技報, vol. 118, no. 276, CPM2018-44, pp. 15-19, 2018年11月. |
資料番号 |
CPM2018-44 |
発行日 |
2018-10-25 (CPM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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