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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2018-12-06 17:10 光学デバイスへのRASの適用 ○田中康仁（シンクロン/電通大）・税所慎一郎（シンクロン）・Gabriel Delgado Fuentes・霞 朋樹・一色秀夫（電通大）  OPE2018-124 LQE2018-134 SIPH2018-40 |
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| 抄録 | （和） | シリコンフォトニクスなどの光学デバイスに、金属不完全化合物による成膜プロセスとラジカル源による完全反応プロセスを繰り返すRAS(Rasical Assisted Suputtering)を適用する。これまでRASは量産機のみであったが、本研究で実験用RASであるRAS for Labを開発した。 |
| （英） | RAS (Rasical Assisted Suputtering) is applied to optical devices such as silicon photonics, which repeats alternately the metal imperfect compound process and the complete reaction process by radical source. RAS has been used for mass production until now, but in this research we developed RAS for research. |
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| キーワード | （和） | RAS (Radical Assisted Sputtering) / シリコンフォトニクス / / / / / / |
| （英） | RAS (Radical Assisted Sputtering) / Silicon photonics / / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 118, no. 348, OPE2018-124, pp. 135-138, 2018年12月. | |
| 資料番号 | OPE2018-124 | |
| 発行日 | 2018-11-29 (OPE, LQE, SIPH) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | OPE2018-124 LQE2018-134 SIPH2018-40 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | LQE OPE SIPH |
| 開催期間 | 2018-12-06 - 2018-12-07 |
| 開催地（和） | 慶應義塾大学 |
| 開催地（英） | Keio University |
| テーマ（和） | Photonic Device Workshop (半導体レーザ関連技術, パッシブデバイス技術, シリコンフォトニクス) |
| テーマ（英） | Photonic Device Workshop |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | OPE |
| 会議コード | 2018-12-LQE-OPE-SIPH |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 光学デバイスへのRASの適用 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Radical Assisted Sputtering optical application |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | RAS (Radical Assisted Sputtering) / RAS (Radical Assisted Sputtering) |
| キーワード(2)（和/英） | シリコンフォトニクス / Silicon photonics |
| キーワード(3)（和/英） | / |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 田中 康仁 / Yasuhito Tanaka / タナカ ヤスヒト |
| 第1著者 所属（和/英） | 株式会社シンクロン/電気通信大学 (略称： シンクロン/電通大) Shincron Co., Ltd/The University of Electro-Communications (略称： Shincron/UEC) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 税所 慎一郎 / Shinichiro Saisho / サイショ シンイチロウ |
| 第2著者 所属（和/英） | 株式会社シンクロン (略称： シンクロン) Shincron Co., Ltd (略称： Shincron) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | Gabriel Delgado Fuentes / Gabriel Delgado Fuentes / Gabriel Delgado Fuentes |
| 第3著者 所属（和/英） | 電気通信大学 (略称： 電通大) The University of Electro-Communications (略称： UEC) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 霞 朋樹 / Tomoki Kasumi / カスミ トモキ |
| 第4著者 所属（和/英） | 電気通信大学 (略称： 電通大) The University of Electro-Communications (略称： UEC) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 一色 秀夫 / Hideo Isshiki / イッシキ ヒデオ |
| 第5著者 所属（和/英） | 電気通信大学 (略称： 電通大) The University of Electro-Communications (略称： UEC) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2018-12-06 17:10:00 |
| 発表時間 | 80分 |
| 申込先研究会 | OPE |
| 資料番号 | OPE2018-124, LQE2018-134, SIPH2018-40 |
| 巻番号（vol） | vol.118 |
| 号番号（no） | no.348(OPE), no.349(LQE) |
| ページ範囲 | pp.135-138 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2018-11-29 (OPE, LQE, SIPH) |
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