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講演抄録/キーワード
講演名 2018-12-06 17:10
Full C+L-Band, Mode Hop Free Wavelength Tunable LD with a Linewidth of Less than 8 kHz
Keisuke KasaiMasataka NakazawaTohoku Univ.)・Yasunori TomomatsuTakashi EndoKoshin KogakuOPE2018-109 LQE2018-119 SIPH2018-25 エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2018-109 LQE2018-119
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
(英) We present a full 90-nm C+L-band (1530-1620 nm) mode hop free wavelength tunable LD in which we developed a new wavelength tuning mechanism with three wavelength tunable filters having a different operation wavelengths. By simultaneously controlling the optical filter wavelength and the Fabry-Perot mode of the LD, we have successfully tuned its wavelength without mode hopping. A linewidth of less than 8 kHz and a relative intensity noise (RIN) below -130 dB/Hz were simultaneously achieved over the C+L-band range.
キーワード (和) / / / / / / /  
(英) Tunable laser / Semiconductor laser / / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 118, no. 348, OPE2018-109, pp. 59-62, 2018年12月.
資料番号 OPE2018-109 
発行日 2018-11-29 (OPE, LQE) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード OPE2018-109 LQE2018-119 SIPH2018-25 エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2018-109 LQE2018-119

研究会情報
研究会 LQE OPE SIPH  
開催期間 2018-12-06 - 2018-12-07 
開催地(和) 慶應義塾大学 
開催地(英) Keio University 
テーマ(和) Photonic Device Workshop (半導体レーザ関連技術, パッシブデバイス技術, シリコンフォトニクス) 
テーマ(英) Photonic Device Workshop 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 OPE 
会議コード 2018-12-LQE-OPE-SIPH 
本文の言語 英語 
タイトル(和)  
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Full C+L-Band, Mode Hop Free Wavelength Tunable LD with a Linewidth of Less than 8 kHz 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) / Tunable laser  
キーワード(2)(和/英) / Semiconductor laser  
キーワード(3)(和/英) /  
キーワード(4)(和/英) /  
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キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 葛西 恵介 / Keisuke Kasai / カサイ ケイスケ
第1著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 中沢 正隆 / Masataka Nakazawa / ナカザワ マサタカ
第2著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 友松 泰則 / Yasunori Tomomatsu / トモマツ ヤスノリ
第3著者 所属(和/英) 光伸光学工業株式会社 (略称: 光伸光学)
Koshin Kogaku Co., Ltd. (略称: Koshin Kogaku)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 遠藤 尚 / Takashi Endo / エンドウ タカシ
第4著者 所属(和/英) 光伸光学工業株式会社 (略称: 光伸光学)
Koshin Kogaku Co., Ltd. (略称: Koshin Kogaku)
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講演者 第1著者 
発表日時 2018-12-06 17:10:00 
発表時間 80分 
申込先研究会 OPE 
資料番号 OPE2018-109, LQE2018-119, SIPH2018-25 
巻番号(vol) vol.118 
号番号(no) no.348(OPE), no.349(LQE) 
ページ範囲 pp.59-62 
ページ数
発行日 2018-11-29 (OPE, LQE) 


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