講演抄録/キーワード |
講演名 |
2018-12-06 17:10
Full C+L-Band, Mode Hop Free Wavelength Tunable LD with a Linewidth of Less than 8 kHz ○Keisuke Kasai・Masataka Nakazawa(Tohoku Univ.)・Yasunori Tomomatsu・Takashi Endo(Koshin Kogaku) OPE2018-109 LQE2018-119 SIPH2018-25 エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2018-109 LQE2018-119 |
抄録 |
(和) |
(まだ登録されていません) |
(英) |
We present a full 90-nm C+L-band (1530-1620 nm) mode hop free wavelength tunable LD in which we developed a new wavelength tuning mechanism with three wavelength tunable filters having a different operation wavelengths. By simultaneously controlling the optical filter wavelength and the Fabry-Perot mode of the LD, we have successfully tuned its wavelength without mode hopping. A linewidth of less than 8 kHz and a relative intensity noise (RIN) below -130 dB/Hz were simultaneously achieved over the C+L-band range. |
キーワード |
(和) |
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(英) |
Tunable laser / Semiconductor laser / / / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 118, no. 348, OPE2018-109, pp. 59-62, 2018年12月. |
資料番号 |
OPE2018-109 |
発行日 |
2018-11-29 (OPE, LQE) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
OPE2018-109 LQE2018-119 SIPH2018-25 エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2018-109 LQE2018-119 |
研究会情報 |
研究会 |
LQE OPE SIPH |
開催期間 |
2018-12-06 - 2018-12-07 |
開催地(和) |
慶應義塾大学 |
開催地(英) |
Keio University |
テーマ(和) |
Photonic Device Workshop (半導体レーザ関連技術, パッシブデバイス技術, シリコンフォトニクス) |
テーマ(英) |
Photonic Device Workshop |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
OPE |
会議コード |
2018-12-LQE-OPE-SIPH |
本文の言語 |
英語 |
タイトル(和) |
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サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Full C+L-Band, Mode Hop Free Wavelength Tunable LD with a Linewidth of Less than 8 kHz |
サブタイトル(英) |
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キーワード(1)(和/英) |
/ Tunable laser |
キーワード(2)(和/英) |
/ Semiconductor laser |
キーワード(3)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
葛西 恵介 / Keisuke Kasai / カサイ ケイスケ |
第1著者 所属(和/英) |
東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
中沢 正隆 / Masataka Nakazawa / ナカザワ マサタカ |
第2著者 所属(和/英) |
東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
友松 泰則 / Yasunori Tomomatsu / トモマツ ヤスノリ |
第3著者 所属(和/英) |
光伸光学工業株式会社 (略称: 光伸光学)
Koshin Kogaku Co., Ltd. (略称: Koshin Kogaku) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
遠藤 尚 / Takashi Endo / エンドウ タカシ |
第4著者 所属(和/英) |
光伸光学工業株式会社 (略称: 光伸光学)
Koshin Kogaku Co., Ltd. (略称: Koshin Kogaku) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2018-12-06 17:10:00 |
発表時間 |
80分 |
申込先研究会 |
OPE |
資料番号 |
OPE2018-109, LQE2018-119, SIPH2018-25 |
巻番号(vol) |
vol.118 |
号番号(no) |
no.348(OPE), no.349(LQE) |
ページ範囲 |
pp.59-62 |
ページ数 |
4 |
発行日 |
2018-11-29 (OPE, LQE) |
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