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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2019-08-26 14:20 スパッタ法によるAZO膜堆積のための導電性酸化物焼結ターゲットの作製 ○清水英彦・岩野春男・川上貴浩・福嶋康夫・永田向太郎（新潟大）  CPM2019-39 |
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| 抄録 | （和） | 本検討では，1500℃及び1600℃にて焼結させたZnOに2wt.%のAl2O3を添加した導電性を有するAZO焼結体を作製するとともに，それをターゲットに用い，DC放電によるマグネトロンスパッタ法により，AZO膜の作製を行った。その結果，可視光領域において，80%以上の透過率を有する膜を得ることができた。また，焼結温度1600℃のターゲットを用いて，基板温度200℃にて膜堆積を行うと，約8×10-4 Ω・cmの膜を得ることができることものの，7×10-4 Ω・cmより小さい抵抗率のAZO薄膜を得ることができなかった。 |
| （英） | In this study, AZO conductive oxide sintered bodies with 2wt.% Al2O3 added to ZnO were prepared at sintering temperature of 1500 ℃ and 1600 ℃. And deposition of AZO films was attempted by the conventional DC-magnetron sputtering method using these sintered bodies as targets. As a result, all of deposited films had a transmittance more than 80% with visible light region. The film deposited at a substrate temperature of 200℃ using a target with a sintering temperature of 1600℃ had about 8×10-4 Ω・cm. But, an AZO film with a resistivity less than 7×10-4 Ω・cm was not obtained in this study. | |
| キーワード | （和） | AZO / 焼結体 / 薄膜 / マグネトロンスパッタ法 / / / / |
| （英） | AZO / Sintered body / Thin film / Magnetron sputtering / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 119, no. 181, CPM2019-39, pp. 9-12, 2019年8月. | |
| 資料番号 | CPM2019-39 | |
| 発行日 | 2019-08-19 (CPM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | CPM2019-39 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
| 開催期間 | 2019-08-26 - 2019-08-26 |
| 開催地（和） | 北見工業大学 1号館２F A-207講義室 |
| 開催地（英） | Kitami Institute of Technology |
| テーマ（和） | 電子部品・材料、一般 |
| テーマ（英） | Component Parts and Materials, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2019-08-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | スパッタ法によるAZO膜堆積のための導電性酸化物焼結ターゲットの作製 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Preparation of conductive oxide sintered targets for AZO thin films deposited by sputtering method |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | AZO / AZO |
| キーワード(2)（和/英） | 焼結体 / Sintered body |
| キーワード(3)（和/英） | 薄膜 / Thin film |
| キーワード(4)（和/英） | マグネトロンスパッタ法 / Magnetron sputtering |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 清水 英彦 / Hidehiko Shimizu / シミズ ヒデヒコ |
| 第1著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岩野 春男 / Haruo Iwano / イワノ ハルオ |
| 第2著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 川上 貴浩 / Takahiro Kawakami / カワカミ タカヒロ |
| 第3著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 福嶋 康夫 / Yasuo Fukushima / フクシマ ヤスオ |
| 第4著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 永田 向太郎 / Koutaro Nagata / ナガタ コウタロウ |
| 第5著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2019-08-26 14:20:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | CPM2019-39 |
| 巻番号（vol） | vol.119 |
| 号番号（no） | no.181 |
| ページ範囲 | pp.9-12 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2019-08-19 (CPM) |
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