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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2019-10-24 13:00 ［招待講演］ナノ人工物メトリクスを実現するランダムナノ構造形成と電気的読出技術 ○葛西誠也・呂 任鵬・清水克真・殷 翔（北大）・上羽陽介・石川幹雄・北村 満（大日本印刷）・法元盛久（産総研）・成瀬 誠（東大）・松本 勉（横浜国大）  SDM2019-62 |
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| 抄録 | （和） | ナノスケールのランダム構造を用いた安全性が高い認証技術であるナノ人工物メトリクスのコンセプト，そしてこれを実現するための要素技術であるレジスト倒壊を用いたランダム２次元ナノ構造形成，および，形成した構造を電気的に読み出しに関する最近の研究について述べる． |
| （英） | We introduce a basic concept of nano-artifact metrics, expected to be a highly secure authentication technique using nano-scale random structures. Recent development of the basic technologies for the nano-artifact metrics including formation of two-dimensional random nanostructure using a resist collapse and a novel electric readout of the formed nanostructures. | |
| キーワード | （和） | 人工物メトリクス / ランダムナノ構造 / レジスト倒壊 / 電気的読み出し / Si MOSFET / / / |
| （英） | Artifact metrics / Random nanostructure / Resist collapse / Electric readout / Si MOSFET / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 119, no. 239, SDM2019-62, pp. 45-50, 2019年10月. | |
| 資料番号 | SDM2019-62 | |
| 発行日 | 2019-10-16 (SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SDM2019-62 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
| 開催期間 | 2019-10-23 - 2019-10-24 |
| 開催地（和） | 東北大学未来情報産業研究館５Ｆ |
| 開催地（英） | Niche, Tohoku Univ. |
| テーマ（和） | プロセス科学と新プロセス技術 |
| テーマ（英） | Process Science and New Process Technology |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2019-10-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | ナノ人工物メトリクスを実現するランダムナノ構造形成と電気的読出技術 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Random nanostructure formation and electric readout for nano-artifact metrics |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 人工物メトリクス / Artifact metrics |
| キーワード(2)（和/英） | ランダムナノ構造 / Random nanostructure |
| キーワード(3)（和/英） | レジスト倒壊 / Resist collapse |
| キーワード(4)（和/英） | 電気的読み出し / Electric readout |
| キーワード(5)（和/英） | Si MOSFET / Si MOSFET |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 葛西 誠也 / Seiya Kasai / |
| 第1著者 所属（和/英） | 北海道大学 (略称： 北大) Hokkaido University (略称： Hokkaido Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 呂 任鵬 / Renpeng Lu / ロ ニンホウ |
| 第2著者 所属（和/英） | 北海道大学 (略称： 北大) Hokkaido University (略称： Hokkaido Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 清水 克真 / Katsumi Shimizu / シミズ カツミ |
| 第3著者 所属（和/英） | 北海道大学 (略称： 北大) Hokkaido University (略称： Hokkaido Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 殷 翔 / Xiang Yin / |
| 第4著者 所属（和/英） | 北海道大学 (略称： 北大) Hokkaido University (略称： Hokkaido Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 上羽 陽介 / Yosuke Ueba / ウエバ ヨウスケ |
| 第5著者 所属（和/英） | 大日本印刷株式会社 (略称： 大日本印刷) Dai Nippon Printing (略称： DNP) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 石川 幹雄 / Mikio Ishikawa / イシカワ ミキオ |
| 第6著者 所属（和/英） | 大日本印刷株式会社 (略称： 大日本印刷) Dai Nippon Printing (略称： DNP) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 北村 満 / Mitsuru Kitamura / キタムラ ミツル |
| 第7著者 所属（和/英） | 大日本印刷株式会社 (略称： 大日本印刷) Dai Nippon Printing (略称： DNP) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | 法元 盛久 / Morihisa Hoga / ホウガ モリヒサ |
| 第8著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： AIST) |
| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） | 成瀬 誠 / Makoto Naruse / ナルセ マコト |
| 第9著者 所属（和/英） | 東京大学 (略称： 東大) The University of Tokyo (略称： Univ. of Tokyo) |
| 第10著者 氏名（和/英/ヨミ） | 松本 勉 / Tsutomu Matsumoto / マツモト ツトム |
| 第10著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 (略称： 横浜国大) Yokohama National University (略称： YNU) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2019-10-24 13:00:00 |
| 発表時間 | 50分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2019-62 |
| 巻番号（vol） | vol.119 |
| 号番号（no） | no.239 |
| ページ範囲 | pp.45-50 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2019-10-16 (SDM) |
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