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講演抄録/キーワード
講演名 2019-11-07 15:25
触媒反応支援CVD法におけるZnO膜への窒素ドーピング
伊庭竜太神林広樹安達雄大長岡技科大)・大石耕一郎片桐裕則長岡高専)・安井寛治長岡技科大CPM2019-47 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2019-47
抄録 (和) 我々は、白金(Pt)ナノ粒子表面での水素と酸素の燃焼反応により生成した高エネルギーH2Oと有機金属ガス(DMZn)を気相中で反応させ生成したZnOプリカーサを基板に供給するCVD法を考案し、a面サファイア基板上にエピタキシャル膜の成長を試みた結果、電気的・光学的特性に優れたn型ZnO結晶膜を得た。p型結晶膜の作製を目指し様々なガスを用いてZnO膜への窒素ドーピングを試みてきたが、膜中への窒素の取り込みが充分ではない。そこで今回、一酸化炭素(NO)ガスの加熱金属触媒体(Ir)表面での分解反応により生成した窒素ラジカルを供給することで窒素ドーピングを試みた。NOガス圧力を変化させ、膜特性に与える影響について調べたので、その結果について報告する。 
(英) The large bandgap and large exciton binding energy of ZnO have recently stimulated intensive research into optoelectronic device applications, such as light-emitting diodes and laser diodes in the ultraviolet region. We previously developed a new chemical vapor deposition method for ZnO film growth using a catalytic reaction over Pt-nanoparticles between hydrogen and oxygen. ZnO films grown on a-plane sapphire substrates using this method exhibited excellent optical and electronic properties. In order to fabricate ZnO-based light-emitting diodes and laser diodes, preparation of p-type ZnO films is required. In the present study, we have attempted nitrogen doping of ZnO films by decomposition of NO gas using a heated Ir wire during film growth. The amount of nitrogen incorporated in the film and its bonding structure were evaluated using secondary ion mass spectrometry and X-ray photoelectron spectroscopy.
キーワード (和) 触媒反応 / 高エネルギーH2O / 加熱Irワイア / 窒素ドーピング / / / /  
(英) catalytic reaction / high-temperature H2O beam / Ir hot-wire / nitrogen doping / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 119, no. 271, CPM2019-47, pp. 15-19, 2019年11月.
資料番号 CPM2019-47 
発行日 2019-10-31 (CPM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード CPM2019-47 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2019-47

研究会情報
研究会 CPM  
開催期間 2019-11-07 - 2019-11-08 
開催地(和) 福井大学 文京キャンパス 
開催地(英) Fukui univ. 
テーマ(和) 機能性材料(半導体、磁性体、誘電体、透明導電体・半導体、等)薄膜プロセス/材料/デバイス,一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2019-11-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 触媒反応支援CVD法におけるZnO膜への窒素ドーピング 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Nitrogen doping to ZnO films in a catalytic reaction assisted chemical vapor deposition 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 触媒反応 / catalytic reaction  
キーワード(2)(和/英) 高エネルギーH2O / high-temperature H2O beam  
キーワード(3)(和/英) 加熱Irワイア / Ir hot-wire  
キーワード(4)(和/英) 窒素ドーピング / nitrogen doping  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 伊庭 竜太 / Ryuta Iba / イバ リュウタ
第1著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学 (略称: 長岡技科大)
Nagaoka Uvibersity of technology (略称: NUT)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 神林 広樹 / Hiroki Kambayashi / カンバヤシ ヒロキ
第2著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学 (略称: 長岡技科大)
Nagaoka Uvibersity of technology (略称: NUT)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 安達 雄大 / Yuki Adachi / アダチ ユウキ
第3著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学 (略称: 長岡技科大)
Nagaoka Uvibersity of technology (略称: NUT)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 大石 耕一郎 / Koichiro Oishi / オオイシ コウイチロウ
第4著者 所属(和/英) 長岡工業高等専門学校 (略称: 長岡高専)
National Institute of Technology, Nagaoka College (略称: NITNC)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 片桐 裕則 / Hironori Katagiri / カタギリ ヒロノリ
第5著者 所属(和/英) 長岡工業高等専門学校 (略称: 長岡高専)
National Institute of Technology, Nagaoka College (略称: NITNC)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 安井 寛治 / Kanji Yasui / ヤスイ カンジ
第6著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学 (略称: 長岡技科大)
Nagaoka Uvibersity of technology (略称: NUT)
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講演者 第1著者 
発表日時 2019-11-07 15:25:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 CPM2019-47 
巻番号(vol) vol.119 
号番号(no) no.271 
ページ範囲 pp.15-19 
ページ数
発行日 2019-10-31 (CPM) 


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