| 講演抄録/キーワード |
| 講演名 |
2019-11-07 15:50
[招待講演]触媒反応支援化学気相成長法を用いた金属酸化物薄膜の成長 ○安井寛治(長岡技科大) CPM2019-48 |
| 抄録 |
(和) |
触媒反応を利用して高エネルギーH2O分子を生成、有機金属ガスと気相中で反応させ金属酸化物薄膜を成長させるCVD法の開発とそれに至る経緯について紹介する。そしてこのCVD法により作製した高品位酸化亜鉛(ZnO)結晶膜の結晶性、配向性、電気伝導特性、ならびに光学特性についても説明する。更に微量のN2Oガスを添加したことによる結晶性、電気伝導特性、光学特性の改善効果について説明する。 |
| (英) |
Author reports a new CVD method for thin film growth of metal oxides using a reaction between organometallic compounds and high-energy H2O produced by a Pt-catalyzed H2-O2 reaction. The ZnO film properties such as crystallinity, electrical and optical properties are reported. In addition, improvement of the electron mobility and optical emission property by the addition of N2O gas is also reported. |
| キーワード |
(和) |
触媒反応 / 化学気相成長法 / 金属酸化物薄膜 / / / / / |
| (英) |
Catalytic reaction / Chemical vapor deposition / Metal-oxide thin film / / / / / |
| 文献情報 |
信学技報, vol. 119, no. 271, CPM2019-48, pp. 21-26, 2019年11月. |
| 資料番号 |
CPM2019-48 |
| 発行日 |
2019-10-31 (CPM) |
| ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
| PDFダウンロード |
CPM2019-48 |