ご案内 入会して研究会活動をもっとお得に!研究会参加費・年間登録費が会員価格になります。
お知らせ 【重要】研究会参加費の支払いおよび原稿アップロード手続きの変更に関するご案内
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2020-05-28 13:30
[招待講演]Beyond 5G応用を見据えたサブミリ波帯InP-HEMT-IC技術
堤 卓也杉山弘樹濱田裕史野坂秀之松崎英昭NTTMWP2020-1
抄録 (和) あらまし第5 世代無線アクセスネットワークシステム(5G)の次世代となるBeyond 5G 実現に向けた議論が早くも進展している.Beyond 5G においては搬送波の高周波化による伝送帯域の拡大が想定されており,その周波数帯の候補の一つとして300 GHz 帯が検討されている.本報告では,300 GHz 帯サブミリ波の通信応用に有望と考えられるInP 系高電子移動度トランジスタ(InP-based high mobility electron transistor: InP-HEMT),およびそのサブミリ波IC(Sub-millimeter-wave monolithic IC: SMMIC)について俯瞰する.さらに開発したInP-HEMT-SMMIC を用い,300 GHz 帯の電子デバイスベースのトランシーバとしては世界最高速となるデータレート120 Gb/s,伝送距離9.8 m を達成した無線伝送実験結果について紹介する. 
(英) The 300-GHz sub-millimeter-wave band is one of the candidate frequency for “Beyond 5G” networks to meet rapidly increasing traffic demands. InP-based Sub-millimeter-wave monolithic ICs (SMMICs) have attracted much attention for applying Beyond 5G because InP-based high electron mobility transistors (InP-HEMTs) feature superior RF characteristics. This paper briefly reviews fundamental physical demands and reports InP-HEMTs and wafer-level backside process technology. We also show a world-record-class 120-Gb/s wireless transmission with the distance of 9.8 m by using InP-HEMT-SMMIC modules with 300-GHz band.
キーワード (和) Beyond 5G / サブミリ波IC / インジウム燐 / 高電子移動度電界効果トランジスタ / ウェハレベル裏面配線プロセス / 裏面配線 / /  
(英) Beyond 5G / Sub-millimeter-wave monolithic ICs / Indium phosphide / High electron mobility transistors / Wafer-level backside process / backside lines / /  
文献情報 信学技報, vol. 120, no. 44, MWP2020-1, pp. 1-6, 2020年5月.
資料番号 MWP2020-1 
発行日 2020-05-21 (MWP) 
ISSN Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード MWP2020-1

研究会情報
研究会 MWP  
開催期間 2020-05-28 - 2020-05-28 
開催地(和) オンライン開催 
開催地(英) Online 
テーマ(和) モバイル 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 MWP 
会議コード 2020-05-MWP 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) Beyond 5G応用を見据えたサブミリ波帯InP-HEMT-IC技術 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Fabrication Process of InP-HEMT-based Sub-millimeter Wave ICs for Beyond 5G Application 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) Beyond 5G / Beyond 5G  
キーワード(2)(和/英) サブミリ波IC / Sub-millimeter-wave monolithic ICs  
キーワード(3)(和/英) インジウム燐 / Indium phosphide  
キーワード(4)(和/英) 高電子移動度電界効果トランジスタ / High electron mobility transistors  
キーワード(5)(和/英) ウェハレベル裏面配線プロセス / Wafer-level backside process  
キーワード(6)(和/英) 裏面配線 / backside lines  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 堤 卓也 / Takuya Tsutsumi / ツツミ タクヤ
第1著者 所属(和/英) 日本電信電話株式会社 (略称: NTT)
NTT Corporation (略称: NTT)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 杉山 弘樹 / Hiroki Sugiyama / スギヤマ ヒロキ
第2著者 所属(和/英) 日本電信電話株式会社 (略称: NTT)
NTT Corporation (略称: NTT)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 濱田 裕史 / Hiroshi Hamada / ハマダ ヒロシ
第3著者 所属(和/英) 日本電信電話株式会社 (略称: NTT)
NTT Corporation (略称: NTT)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 野坂 秀之 / Hideyuki Nosaka / ノサカ ヒデユキ
第4著者 所属(和/英) 日本電信電話株式会社 (略称: NTT)
NTT Corporation (略称: NTT)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 松崎 英昭 / Hideaki Matsuzaki / マツザキ ヒデアキ
第5著者 所属(和/英) 日本電信電話株式会社 (略称: NTT)
NTT Corporation (略称: NTT)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第6著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第21著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第21著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第22著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第22著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第23著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第23著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第24著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第24著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第25著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第25著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第26著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第26著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第27著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第27著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第28著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第28著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第29著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第29著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第30著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第30著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第31著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第31著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第32著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第32著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第33著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第33著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第34著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第34著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第35著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第35著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第36著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第36著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2020-05-28 13:30:00 
発表時間 60分 
申込先研究会 MWP 
資料番号 MWP2020-1 
巻番号(vol) vol.120 
号番号(no) no.44 
ページ範囲 pp.1-6 
ページ数
発行日 2020-05-21 (MWP) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会