| 講演抄録/キーワード |
| 講演名 |
2020-11-26 14:10
界面顕微光応答法を用いた光電気化学エッチングしたNi/GaNショットキー接触の2次元評価 ~ n形とp形の比較 ~ ○松田 陵(福井大)・堀切文正・成田好伸・吉田丈洋・福原 昇(サイオクス)・三島友義(法政大)・塩島謙次(福井大) ED2020-9 CPM2020-30 LQE2020-60 |
| 抄録 |
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| キーワード |
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| 文献情報 |
信学技報, vol. 120, no. 254, ED2020-9, pp. 33-36, 2020年11月. |
| 資料番号 |
ED2020-9 |
| 発行日 |
2020-11-19 (ED, CPM, LQE) |
| ISSN |
Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
| PDFダウンロード |
ED2020-9 CPM2020-30 LQE2020-60 |
| 研究会情報 |
| 研究会 |
LQE CPM ED |
| 開催期間 |
2020-11-26 - 2020-11-27 |
| 開催地(和) |
オンライン開催 |
| 開催地(英) |
Online |
| テーマ(和) |
窒化物半導体光・電デバイス、材料、関連技術、及び一般 |
| テーマ(英) |
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| 講演論文情報の詳細 |
| 申込み研究会 |
ED |
| 会議コード |
2020-11-LQE-CPM-ED |
| 本文の言語 |
日本語 |
| タイトル(和) |
界面顕微光応答法を用いた光電気化学エッチングしたNi/GaNショットキー接触の2次元評価 |
| サブタイトル(和) |
n形とp形の比較 |
| タイトル(英) |
Mapping of Photoelectrochemical Etched Ni/GaN Schottky Contacts Using Scanning Internal Photoemission Microscopy |
| サブタイトル(英) |
Comparison between n- and p-type GaN samples |
| キーワード(1)(和/英) |
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| 第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
松田 陵 / Ryo Matsuda / マツダ リョウ |
| 第1著者 所属(和/英) |
福井大学 (略称: 福井大)
University of Fukui (略称: Univ. of Fukui) |
| 第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
堀切 文正 / Fumimasa Horikiri / ホリキリ フミマサ |
| 第2著者 所属(和/英) |
サイオクス (略称: サイオクス)
SCIOCS (略称: SCIOCS) |
| 第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
成田 好伸 / Yoshinobu Narita / ナリタ ヨシノブ |
| 第3著者 所属(和/英) |
サイオクス (略称: サイオクス)
SCIOCS (略称: SCIOCS) |
| 第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
吉田 丈洋 / Takehiro Yoshida / ヨシダ タケヒロ |
| 第4著者 所属(和/英) |
サイオクス (略称: サイオクス)
SCIOCS (略称: SCIOCS) |
| 第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
福原 昇 / Noboru Fukuhara / フクハラ ノボル |
| 第5著者 所属(和/英) |
サイオクス (略称: サイオクス)
SCIOCS (略称: SCIOCS) |
| 第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
三島 友義 / Tomoyoshi Mishima / ミシマ トモヨシ |
| 第6著者 所属(和/英) |
法政大学 (略称: 法政大)
Hosei University (略称: Hosei Univ.) |
| 第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
塩島 謙次 / Kenji Shiojima / シオジマ ケンジ |
| 第7著者 所属(和/英) |
福井大学 (略称: 福井大)
University of Fukui (略称: Univ. of Fukui) |
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| 講演者 |
第1著者 |
| 発表日時 |
2020-11-26 14:10:00 |
| 発表時間 |
20分 |
| 申込先研究会 |
ED |
| 資料番号 |
ED2020-9, CPM2020-30, LQE2020-60 |
| 巻番号(vol) |
vol.120 |
| 号番号(no) |
no.254(ED), no.255(CPM), no.256(LQE) |
| ページ範囲 |
pp.33-36 |
| ページ数 |
4 |
| 発行日 |
2020-11-19 (ED, CPM, LQE) |