講演抄録/キーワード |
講演名 |
2021-11-25 16:30
高温アニールAlNテンプレートを用いた220 nm帯発光AlGaN量子井戸の成長 ○石原頌也・窪谷茂幸・正直花奈子・上杉謙次郎・肖 世玉・三宅秀人(三重大) ED2021-26 CPM2021-60 LQE2021-38 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2021-26 CPM2021-60 LQE2021-38 |
抄録 |
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キーワード |
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文献情報 |
信学技報, vol. 121, no. 261, LQE2021-38, pp. 55-58, 2021年11月. |
資料番号 |
LQE2021-38 |
発行日 |
2021-11-18 (ED, CPM, LQE) |
ISSN |
Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
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研究会情報 |
研究会 |
ED CPM LQE |
開催期間 |
2021-11-25 - 2021-11-26 |
開催地(和) |
オンライン開催 |
開催地(英) |
Online |
テーマ(和) |
窒化物半導体光、電子デバイス、材料、関連技術、及び一般 |
テーマ(英) |
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講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
LQE |
会議コード |
2021-11-ED-CPM-LQE |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
高温アニールAlNテンプレートを用いた220 nm帯発光AlGaN量子井戸の成長 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Growth of 220-nm-band-emission AlGaN Quantum Wells Using Annealed Sputtered AlN Template |
サブタイトル(英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
石原 頌也 / Shoya Ishihara / イシハラ ショウヤ |
第1著者 所属(和/英) |
三重大学 (略称: 三重大)
Mie University (略称: Mie Univ.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
窪谷 茂幸 / Shigeyuki Kuboya / クボヤ シゲユキ |
第2著者 所属(和/英) |
三重大学 (略称: 三重大)
Mie University (略称: Mie Univ.) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
正直 花奈子 / Kanako Shojiki / ショウジキ カナコ |
第3著者 所属(和/英) |
三重大学 (略称: 三重大)
Mie University (略称: Mie Univ.) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
上杉 謙次郎 / Kenjiro Uesugi / ウエスギ ケンジロウ |
第4著者 所属(和/英) |
三重大学 (略称: 三重大)
Mie University (略称: Mie Univ.) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
肖 世玉 / Xiao Shiyu / シャオ シユ |
第5著者 所属(和/英) |
三重大学 (略称: 三重大)
Mie University (略称: Mie Univ.) |
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
三宅 秀人 / Hideto Miyake / ミヤケ ヒデト |
第6著者 所属(和/英) |
三重大学 (略称: 三重大)
Mie University (略称: Mie Univ.) |
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2021-11-25 16:30:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
LQE |
資料番号 |
ED2021-26, CPM2021-60, LQE2021-38 |
巻番号(vol) |
vol.121 |
号番号(no) |
no.259(ED), no.260(CPM), no.261(LQE) |
ページ範囲 |
pp.55-58 |
ページ数 |
4 |
発行日 |
2021-11-18 (ED, CPM, LQE) |