ご案内 入会して研究会活動をもっとお得に!研究会参加費・年間登録費が会員価格になります。
お知らせ 【重要】研究会参加費の支払いおよび原稿アップロード手続きの変更に関するご案内
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2022-03-07 09:10
配線の並列処理を考慮したスタンダードセル配置手法の改良
古屋敷 武藤吉邦洋東京農工大VLD2021-76 HWS2021-53
抄録 (和) 近年,LSIの1個からの少量生産を低コストかつ短期間で行うことを目的としたミニマルファブの研究開発が行われており,オープンソースツールQflow用いたミニマルEDAが開発されているが,配線設計にかかる時間は実用的には長すぎるため,並列処理により高速化する研究が行われている.しかし,Qflowの中の配置ツールGraywolfは配線の並列処理を想定しておらず,入力によっては適した分割位置が存在せず並列処理の効率が低下する場合があった.そこで,配線の並列処理を考慮して配置を行うことで効率よく並列に配線し高速化することを目的として,セルの集合と配置領域を再帰的に分割し,各領域で並列にSA法による配置最適化を行ったが,回路によっては配線に失敗したりしたため,改良を加えた手法を提案する.そして計算機実験により,Graywolfで配置した場合と比べて,入力に用いた回路のうち約5割の回路では高速に配置配線できた. 
(英) Recently, a minimal fab has been proposed for the purpose of small-quantity production of LSI at low cost and in a short period of time, and a minimal EDA using the open-source tool Qflow has been developed. Since the time required is too long for practical, research on speeding up by parallel processing was conducted. However, since the placement tool Graywolf in Qflow does not assume parallel processing of routing, there was a case where the efficiency of parallel processing was low because there was no suitable division. Therefore, we propose a placement method in which the circuit and area are divided by the minimum cut to the number of parallel processes, and then the placement optimization is performed twice by SA in each area in order to shorten the wire length. Before the second placement optimization, pseudo terminals are placed by the global routing.
キーワード (和) スタンダードセル / 配置 / 並列処理 / ミニマルファブ / / / /  
(英) standard cell / placement / parallel processing / minimal fab / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 121, no. 412, VLD2021-76, pp. 1-6, 2022年3月.
資料番号 VLD2021-76 
発行日 2022-02-28 (VLD, HWS) 
ISSN Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード VLD2021-76 HWS2021-53

研究会情報
研究会 VLD HWS  
開催期間 2022-03-07 - 2022-03-08 
開催地(和) オンライン開催 
開催地(英) Online 
テーマ(和) システムオンシリコンを支える設計技術, ハードウェアセキュリティ, 一般 
テーマ(英) Design Technology for System-on-Silicon, Hardware Security, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 VLD 
会議コード 2022-03-VLD-HWS 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 配線の並列処理を考慮したスタンダードセル配置手法の改良 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Improved placement-method of standard cells considering parallel routing 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) スタンダードセル / standard cell  
キーワード(2)(和/英) 配置 / placement  
キーワード(3)(和/英) 並列処理 / parallel processing  
キーワード(4)(和/英) ミニマルファブ / minimal fab  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 古屋敷 武 / Takeru Furuyashiki / フルヤシキ タケル
第1著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: TUAT)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 藤吉 邦洋 / Kunihiro Fujiyoshi / フジヨシ クニヒロ
第2著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: TUAT)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第3著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第4著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第5著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第6著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第21著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第21著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第22著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第22著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第23著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第23著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第24著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第24著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第25著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第25著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第26著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第26著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第27著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第27著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第28著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第28著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第29著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第29著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第30著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第30著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第31著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第31著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第32著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第32著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第33著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第33著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第34著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第34著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第35著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第35著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第36著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第36著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2022-03-07 09:10:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 VLD 
資料番号 VLD2021-76, HWS2021-53 
巻番号(vol) vol.121 
号番号(no) no.412(VLD), no.413(HWS) 
ページ範囲 pp.1-6 
ページ数
発行日 2022-02-28 (VLD, HWS) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会