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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2022-04-23 09:30 光学干渉非接触温度測定法(OICT)によるシリコンウェハ内部の過渡的熱拡散過程の三次元イメージング ○松口康太郎・藤本渓也・Yu Jiawen・花房宏明・佐藤拓磨・東 清一郎（広島大）  SDM2022-8 OME2022-8 |
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| 抄録 | （和） | (まだ登録されていません) |
| （英） | (Not available yet) | |
| キーワード | （和） | / / / / / / / |
| （英） | / / / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 122, no. 8, SDM2022-8, pp. 39-42, 2022年4月. | |
| 資料番号 | SDM2022-8 | |
| 発行日 | 2022-04-15 (SDM, OME) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SDM2022-8 OME2022-8 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME SDM |
| 開催期間 | 2022-04-22 - 2022-04-23 |
| 開催地（和） | 高千穂ホール（宮崎市） |
| 開催地（英） | Takachiho Hall |
| テーマ（和） | 薄膜（Si,化合物,有機,フレキシブル）機能デバイス・バイオテクノロジー・材料・評価技術および一般 |
| テーマ（英） | Thin film devices (Si, compound, organic, flexible), Biotechnology, Materials, Characterization, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2022-04-OME-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 光学干渉非接触温度測定法(OICT)によるシリコンウェハ内部の過渡的熱拡散過程の三次元イメージング |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | 3-Dimensional Imaging for Transient Thermal Diffusion in Silicon Wafer by Optical Interference Contactless Thermometry (OICT) |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | / |
| キーワード(2)（和/英） | / |
| キーワード(3)（和/英） | / |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 松口 康太郎 / Kotaro Matsuguchi / マツグチ コウタロウ |
| 第1著者 所属（和/英） | 広島大学先進理工 (略称： 広島大) Hiroshima University (略称： Hiroshima Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 藤本 渓也 / Keiya Fujimoto / フジモト ケイヤ |
| 第2著者 所属（和/英） | 広島大学先進理工 (略称： 広島大) Hiroshima University (略称： Hiroshima Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | Yu Jiawen / Yu Jiawen / ユ カブン |
| 第3著者 所属（和/英） | 広島大学先進理工 (略称： 広島大) Hiroshima University (略称： Hiroshima Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 花房 宏明 / Hiroaki Hanafusa / ハナフサ ヒロアキ |
| 第4著者 所属（和/英） | 広島大学先進理工 (略称： 広島大) Hiroshima University (略称： Hiroshima Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 佐藤 拓磨 / Takuma Sato / サトウ タクマ |
| 第5著者 所属（和/英） | 広島大学先進理工 (略称： 広島大) Hiroshima University (略称： Hiroshima Univ.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 東 清一郎 / Seiichiro Higashi / ヒガシ セイイチロウ |
| 第6著者 所属（和/英） | 広島大学先進理工 (略称： 広島大) Hiroshima University (略称： Hiroshima Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2022-04-23 09:30:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2022-8, OME2022-8 |
| 巻番号（vol） | vol.122 |
| 号番号（no） | no.8(SDM), no.9(OME) |
| ページ範囲 | pp.39-42 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2022-04-15 (SDM, OME) |
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