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講演抄録/キーワード
講演名 2022-08-05 09:55
化学溶液析出法による水酸化ニッケルナノウォール成長と表面形態へのシード層の影響
寺迫智昭愛媛大)・山本哲也高知工科大CPM2022-17
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
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文献情報 信学技報, vol. 122, no. 147, CPM2022-17, pp. 22-25, 2022年8月.
資料番号 CPM2022-17 
発行日 2022-07-28 (CPM) 
ISSN Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード CPM2022-17

研究会情報
研究会 CPM  
開催期間 2022-08-04 - 2022-08-05 
開催地(和) 北見工業大学 
開催地(英)  
テーマ(和) 電子部品・材料,一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2022-08-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 化学溶液析出法による水酸化ニッケルナノウォール成長と表面形態へのシード層の影響 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Chemical Bath Deposition of Nickel Hydroxide Nanowalls and Influence of Seed Layers on Their Morphological Properties 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 寺迫 智昭 / Tomoaki Terasako / テラサコ トモアキ
第1著者 所属(和/英) 愛媛大学 (略称: 愛媛大)
Ehime University (略称: Ehime Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 山本 哲也 / Tetsuya Yamamoto / ヤマモト テツヤ
第2著者 所属(和/英) 高知工科大学 (略称: 高知工科大)
Kochi University of Technology (略称: Kochi. Univ. Technol.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2022-08-05 09:55:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 CPM2022-17 
巻番号(vol) vol.122 
号番号(no) no.147 
ページ範囲 pp.22-25 
ページ数
発行日 2022-07-28 (CPM) 


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