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講演抄録/キーワード
講演名 2022-11-24 16:05
高抵抗歪超格子層を用いたSi基板上のAlGaN/GaN縦型デバイス
小池貴也林 航希早藤綾佑久保俊晴江川孝志名工大ED2022-38 CPM2022-63 LQE2022-71
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
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文献情報 信学技報, vol. 122, no. 271, ED2022-38, pp. 65-68, 2022年11月.
資料番号 ED2022-38 
発行日 2022-11-17 (ED, CPM, LQE) 
ISSN Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード ED2022-38 CPM2022-63 LQE2022-71

研究会情報
研究会 CPM ED LQE  
開催期間 2022-11-24 - 2022-11-25 
開催地(和) ウインクあいち(愛知県産業労働センター)(名古屋) 
開催地(英) Winc Aichi (Aichi Industry & Labor Center) 
テーマ(和) 窒化物半導体光、電子デバイス、材料、関連技術、及び一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ED 
会議コード 2022-11-CPM-ED-LQE 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 高抵抗歪超格子層を用いたSi基板上のAlGaN/GaN縦型デバイス 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) AlGaN/GaN vertical devices on Si substrate with highly resistive strained layer superlattice 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 小池 貴也 / Takaya Koike / コイケ タカヤ
第1著者 所属(和/英) 名古屋工業大学 (略称: 名工大)
Nagoya Institute of Technology (略称: NIT)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 林 航希 / Koki Hayashi / ハヤシ コウキ
第2著者 所属(和/英) 名古屋工業大学 (略称: 名工大)
Nagoya Institute of Technology (略称: NIT)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 早藤 綾佑 / Ryosuke Hayafuji / ハヤフジ リョウスケ
第3著者 所属(和/英) 名古屋工業大学 (略称: 名工大)
Nagoya Institute of Technology (略称: NIT)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 久保 俊晴 / Toshiharu Kubo / クボ トシハル
第4著者 所属(和/英) 名古屋工業大学 (略称: 名工大)
Nagoya Institute of Technology (略称: NIT)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 江川 孝志 / Takashi Egawa / エガワ タカシ
第5著者 所属(和/英) 名古屋工業大学 (略称: 名工大)
Nagoya Institute of Technology (略称: NIT)
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講演者 第1著者 
発表日時 2022-11-24 16:05:00 
発表時間 20分 
申込先研究会 ED 
資料番号 ED2022-38, CPM2022-63, LQE2022-71 
巻番号(vol) vol.122 
号番号(no) no.271(ED), no.272(CPM), no.273(LQE) 
ページ範囲 pp.65-68 
ページ数
発行日 2022-11-17 (ED, CPM, LQE) 


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