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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2022-11-30 10:45 ボロノイ分割と繰り返し改善によるマスク最適化手法 ○野中尚貴・小平行秀（会津大）・高橋篤司（東工大）・児玉親亮（キオクシア）  VLD2022-41 ICD2022-58 DC2022-57 RECONF2022-64 |
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| 抄録 | （和） | 製造プロセスの1 つである光リソグラフィの解像度を改善する技術のうち，ウェハ上に転写されるパタンの忠実性をマスク最適化によって改善する光学近接補正は，半導体の微細化の進展において重要な役割を担っている．本稿では，ボロノイ分割と繰り返し改善によるマスク最適化を提案する．マスク領域をボロノイ分割で分け，各領域に対して領域内のパタン形状を定めるパラメタを1 つ定義し，繰り返し改善によってそのパラメタ値を調整することでマスクパタンの全体形状を決定する．計算機実験により，提案手法により得られるマスク形状の質は大きく悪化することなく，最適化における変数が削減されることで計算時間が削減されることを確認する． |
| （英） | To realize continuously scaling down technology node, progressing manufacturing process by optical lithography is required. In resolution enhancement techniques in the optical lithography, Optical Proximity Correction (OPC), which improves shape fidelity of formed patterns on wafers to designed target patterns by mask optimization, is essential to progress the optical lithography. In this paper, we propose a mask optimization by Voronoi partition and iterative improvement. The mask region is divided by Voronoi partition and one parameter is defined for each region. The shape of mask pattern is determined by adjusting these parameters in the iterative improvement. Experiments show that the quality of the mask shape obtained by the proposed method is not degraded significantly and that the reduction of variables in the optimization reduces the execution time. | |
| キーワード | （和） | 光リソグラフィ / マスク最適化 / 光学近接補正 / ボロノイ分割 / / / / |
| （英） | optical lithography / mask optimization / Optical Proximity Correction (OPC) / Voronoi partition / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 122, no. 283, VLD2022-41, pp. 127-132, 2022年11月. | |
| 資料番号 | VLD2022-41 | |
| 発行日 | 2022-11-21 (VLD, ICD, DC, RECONF) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | VLD2022-41 ICD2022-58 DC2022-57 RECONF2022-64 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | VLD DC RECONF ICD IPSJ-SLDM |
| 開催期間 | 2022-11-28 - 2022-11-30 |
| 開催地（和） | 金沢市文化ホール |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | デザインガイア2022 -VLSI設計の新しい大地- |
| テーマ（英） | Design Gaia 2022 -New Field of VLSI Design- |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | VLD |
| 会議コード | 2022-11-VLD-DC-RECONF-ICD-SLDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | ボロノイ分割と繰り返し改善によるマスク最適化手法 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Mask Optimization Using Voronoi Partition and Iterative Improvement |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 光リソグラフィ / optical lithography |
| キーワード(2)（和/英） | マスク最適化 / mask optimization |
| キーワード(3)（和/英） | 光学近接補正 / Optical Proximity Correction (OPC) |
| キーワード(4)（和/英） | ボロノイ分割 / Voronoi partition |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 野中 尚貴 / Naoki Nonaka / ノナカ ナオキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 会津大学 (略称： 会津大) The University of Aizu (略称： Univ. of Aizu) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小平 行秀 / Yukihide Kohira / コヒラ ユキヒデ |
| 第2著者 所属（和/英） | 会津大学 (略称： 会津大) The University of Aizu (略称： Univ. of Aizu) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 高橋 篤司 / Atsushi Takahashi / マツイ トモミTokyo Institute of Technology |
| 第3著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 児玉 親亮 / Chikaaki Kodama / コダマ チカアキ |
| 第4著者 所属（和/英） | キオクシア株式会社 (略称： キオクシア) KIOXIA Corporation (略称： KIOXIA) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2022-11-30 10:45:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | VLD |
| 資料番号 | VLD2022-41, ICD2022-58, DC2022-57, RECONF2022-64 |
| 巻番号（vol） | vol.122 |
| 号番号（no） | no.283(VLD), no.284(ICD), no.285(DC), no.286(RECONF) |
| ページ範囲 | pp.127-132 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2022-11-21 (VLD, ICD, DC, RECONF) |
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