お知らせ
2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ
技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ
【重要】研究会・各種料金のお支払い方法変更について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
トップに戻る
前のページに戻る
[Japanese]
/
[English]
講演抄録/キーワード
講演名
2022-12-09 10:40
h-BNのSi基板上低温成膜技術の開発とgraphene/h-BN/Si積層型平面電子放出デバイスへの応用
○
山本将也
(
静岡大/産総研
)・
村田博雅
・
長尾昌善
(
産総研
)・
三村秀典
・
根尾陽一郎
(
静岡大
)・
村上勝久
(
産総研
)
ED2022-61
エレソ技報アーカイブへのリンク:
ED2022-61
抄録
(和)
(まだ登録されていません)
(英)
(Not available yet)
キーワード
(和)
/ / / / / / /
(英)
/ / / / / / /
文献情報
信学技報, vol. 122, no. 298, ED2022-61, pp. 37-38, 2022年12月.
資料番号
ED2022-61
発行日
2022-12-01 (ED)
ISSN
Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード
ED2022-61
エレソ技報アーカイブへのリンク:
ED2022-61
研究会情報
研究会
ED
開催期間
2022-12-08 - 2022-12-09
開催地(和)
12/8 名大,12/9 ウインク愛知(会場は「詳細はこちら」を参照ください)
開催地(英)
12/8 Nagoya University, 12/9 WINC AICHI
テーマ(和)
電子・イオンビーム応用
テーマ(英)
Applications of electron and ion beam
講演論文情報の詳細
申込み研究会
ED
会議コード
2022-12-ED
本文の言語
日本語
タイトル(和)
h-BNのSi基板上低温成膜技術の開発とgraphene/h-BN/Si積層型平面電子放出デバイスへの応用
サブタイトル(和)
タイトル(英)
Development of low-temperature synthesis of h-BN on Si substrate and its application to graphene/h-BN/Si stacked planar-type electron emission devices
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
/
キーワード(2)(和/英)
/
キーワード(3)(和/英)
/
キーワード(4)(和/英)
/
キーワード(5)(和/英)
/
キーワード(6)(和/英)
/
キーワード(7)(和/英)
/
キーワード(8)(和/英)
/
第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
山本 将也
/
Masaya Yamamoto
/
ヤマモト マサヤ
第1著者 所属(和/英)
静岡大学/産業技術総合研究所
(略称:
静岡大/産総研
)
Shizuoka University/ National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
(略称:
Shizuoka Univ./ AIST
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
村田 博雅
/
Hiromasa Murata
/
ムラタ ヒロマサ
第2著者 所属(和/英)
産業技術総合研究所
(略称:
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
(略称:
AIST
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
長尾 昌善
/
Masayoshi Nagao
/
ナガオ マサヨシ
第3著者 所属(和/英)
産業技術総合研究所
(略称:
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
(略称:
AIST
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
三村 秀典
/
Hidenori Mimura
/
ミムラ ヒデノリ
第4著者 所属(和/英)
静岡大学
(略称:
静岡大
)
Shizuoka University
(略称:
Shizuoka Univ.
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
根尾 陽一郎
/
Yoichiro Neo
/
ネオ ヨウイチロウ
第5著者 所属(和/英)
静岡大学
(略称:
静岡大
)
Shizuoka University
(略称:
Shizuoka Univ.
)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
村上 勝久
/
Katsuhisa Murakami
/
ムラカミ カツヒサ
第6著者 所属(和/英)
産業技術総合研究所
(略称:
産総研
)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
(略称:
AIST
)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第7著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第8著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第9著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第10著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第11著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第12著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第13著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第14著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第15著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第16著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第17著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第18著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第19著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第20著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第21著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第21著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第22著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第22著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第23著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第23著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第24著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第24著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第25著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第25著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第26著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第26著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第27著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第27著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第28著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第28著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第29著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第29著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第30著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第30著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第31著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第31著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第32著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第32著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第33著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第33著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第34著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第34著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第35著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第35著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第36著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第36著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
講演者
第1著者
発表日時
2022-12-09 10:40:00
発表時間
25分
申込先研究会
ED
資料番号
ED2022-61
巻番号(vol)
vol.122
号番号(no)
no.298
ページ範囲
pp.37-38
ページ数
2
発行日
2022-12-01 (ED)
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]
[電子情報通信学会ホームページ]
IEICE / 電子情報通信学会