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講演抄録/キーワード
講演名 2023-01-27 15:25
六方晶BN薄膜の減圧CVD成長の高温化
大石泰己渡邊泰良田中佑樹増田克仁吉岡 陸増田希良里小南裕子原 和彦静岡大EID2022-8
抄録 (和) BCl₃ と NH₃ を原料とする減圧化学気相法 (CVD) を用いて、c 面サファイア上に六方晶窒化ホウ素 (h-BN) 薄膜のさらなる膜質向上に向けて、従来よりも高い成長温度 Tg における薄膜成長条件の探索を目的とし、Tg = 1300 ℃ および 1400 ℃ における成長条件の最適化を図った。Tg = 1300 ℃ では、NH₃流量を最適化することにより、従来よりも発光特性が大きく向上した。この試料の特性は Tg = 1200 ℃より良好であり、成長の高温化が期待通り示された。Tg = 1400 ℃では、これまで最適な成長圧力 Pgであると考えられていた 15 kPa よりも低い Pg = 7.5 kPa において発光特性が向上した。しかし、膜質の向上は Tg = 1300 ℃に及ばず、さらなる成長温度の高温化には、成長条件の検討をさらに進める必要がある。 
(英) To further improve quality of hexagonal boron nitride (h-BN) thin films grown on c-plane sapphire by a low - pressure chemical vapor deposition (CVD) method with BCl₃ and NH₃, we have optimized the growth conditions at higher growth temperatures, Tg, than before. At Tg = 1300 ℃, optimizing the NH₃ flow rate significantly improved the luminescence property compared to those grow at 1200 ℃. At Tg = 1400 ℃, the luminescence property was most improved at growth pressure, Pg = 7.5 kPa, which is lower than the optimal Pg of 15 kPa at 1200 and 1300 ℃. However, the improvement of film quality was not achieved at Tg = 1400 ℃. At even higher Tg, the growth conditions need to be further investigated.
キーワード (和) 六方晶窒化ホウ素 / CVD / 薄膜 / 固有励起子発光 / / / /  
(英) hexagonal boron nitride / CVD / thin film / excitonic luminescence / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 122, no. 366, EID2022-8, pp. 17-20, 2023年1月.
資料番号 EID2022-8 
発行日 2023-01-19 (EID) 
ISSN Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード EID2022-8

研究会情報
研究会 ITE-IDY IEIJ-SSL EID SID-JC IEE-EDD  
開催期間 2023-01-26 - 2023-01-27 
開催地(和) オンライン開催 (Webex) 
開催地(英) Online (Zoom) 
テーマ(和) 発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 EID 
会議コード 2023-01-IDY-SSL-EID-JC-EDD 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 六方晶BN薄膜の減圧CVD成長の高温化 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Low - pressure CVD of hexagonal BN thin films at high temperatures 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 六方晶窒化ホウ素 / hexagonal boron nitride  
キーワード(2)(和/英) CVD / CVD  
キーワード(3)(和/英) 薄膜 / thin film  
キーワード(4)(和/英) 固有励起子発光 / excitonic luminescence  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 大石 泰己 / Taiki Oishi / オオイシ タイキ
第1著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 渡邊 泰良 / Taira Watanabe / ワタナベ タイラ
第2著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 田中 佑樹 / Yuki Tanaka / タナカ ユウキ
第3著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 増田 克仁 / Katsumi Masuda / マスダ カツミ
第4著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 吉岡 陸 / Riku Yoshioka / ヨシオカ リク
第5著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 増田 希良里 / Kirari Masuda / マスダ キラリ
第6著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 小南 裕子 / Hiroko Kominami / コミナミ ヒロコ
第7著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 原 和彦 / Kazuhiko Hara / ハラ カズヒコ
第8著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2023-01-27 15:25:00 
発表時間 10分 
申込先研究会 EID 
資料番号 EID2022-8 
巻番号(vol) vol.122 
号番号(no) no.366 
ページ範囲 pp.17-20 
ページ数
発行日 2023-01-19 (EID) 


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