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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2023-03-04 11:30 ナノ人工物メトリクスの耐クローン性：白色干渉計と位相限定相関法を用いたシステムの場合 ○岩橋 虎・吉田直樹・松本 勉（横浜国大）  VLD2022-118 HWS2022-89 |
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| 抄録 | （和） | 人工物メトリクスは，各人工物に固有の特徴を用いて人工物を認証する技術である．製造者の技術的優位性をセキュリティの根拠としている従来の偽造防止技術とは異なり，人工物メトリクスは製造者ですら複製困難な特徴を用いるため，本物の個体と同等の値が測定される別の物体を作成することが極めて困難である「耐クローン性」を有することが期待されている．電子線リソグラフィにおける電子線レジスト・ピラーの倒壊現象を利用したナノメートルオーダのランダムな凹凸構造を白色干渉計によって撮像し認証を行うシステムでは，ZNCC(Zero-means Normalized Cross-Correration)を用いた照合精度実験により，Equal Error Rateが1億分の1より小さくなることが示されている．一方で,加工技術も日々進歩しており，セキュリティを担保するためには実際にクローンを作成しシステムの評価を行うことが求められる．本研究では，走査型プローブリソグラフィによって作製された高精度なクローンを白色干渉計と位相限定相関法を用いたシステムによって判別可能であることを示す． |
| （英） | Artifact Metrics is a technique for authenticating artifacts using characteristics unique to each artifact. Unlike conventional anti-counterfeiting technology that relies on the technological superiority of the manufacturer for security, artifact metrics use characteristics that are difficult even for manufacturers to duplicate, so they are different from those that measure the same value as genuine individuals. It is expected to have "cloning resistance", which makes it extremely difficult to create objects of In a system that uses a white light interferometer to capture and authenticate a nanometer-order random uneven structure that utilizes the collapse phenomenon of electron beam resist pillars in electron beam lithography, matching using ZNCC (Zero-means Normalized Cross-Correlation) Accuracy experiments show that the Equal Error Rate is less than 1 in 100 million. On the other hand, processing technology is also progressing day by day, and in order to ensure security, it is required to actually create a clone and evaluate the system. In this study, we show that highly accurate clones fabricated by scanning probe lithography can be discriminated by a system using a white interferometer and a phase-only correlation method. | |
| キーワード | （和） | 人工物メトリクス / レジスト倒壊 / 白色干渉計 / 耐クローン性 / 位相限定相関法 / / / |
| （英） | artifact metrics / resist collapse / white light interferometer / clonal resistance / phase only correlation / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 122, no. 403, HWS2022-89, pp. 251-256, 2023年3月. | |
| 資料番号 | HWS2022-89 | |
| 発行日 | 2023-02-22 (VLD, HWS) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | VLD2022-118 HWS2022-89 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | HWS VLD |
| 開催期間 | 2023-03-01 - 2023-03-04 |
| 開催地（和） | 沖縄県青年会館 |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | システムオンシリコンを支える設計技術, ハードウェアセキュリティ, 一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | HWS |
| 会議コード | 2023-03-HWS-VLD |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | ナノ人工物メトリクスの耐クローン性：白色干渉計と位相限定相関法を用いたシステムの場合 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Clone Resistance of Artifact Metrics Systems Based on White Light Interferometry and Phase Only Correlation |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 人工物メトリクス / artifact metrics |
| キーワード(2)（和/英） | レジスト倒壊 / resist collapse |
| キーワード(3)（和/英） | 白色干渉計 / white light interferometer |
| キーワード(4)（和/英） | 耐クローン性 / clonal resistance |
| キーワード(5)（和/英） | 位相限定相関法 / phase only correlation |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岩橋 虎 / Akira Iwahashi / イワハシ アキラ |
| 第1著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 (略称： 横浜国大) Yokohama National University (略称： YNU) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 吉田 直樹 / Naoki Yoshida / ヨシダ ナオキ |
| 第2著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 (略称： 横浜国大) Yokohama National University (略称： YNU) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 松本 勉 / Tsutomu Matsumoto / |
| 第3著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 (略称： 横浜国大) Yokohama National University (略称： YNU) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2023-03-04 11:30:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | HWS |
| 資料番号 | VLD2022-118, HWS2022-89 |
| 巻番号（vol） | vol.122 |
| 号番号（no） | no.402(VLD), no.403(HWS) |
| ページ範囲 | pp.251-256 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2023-02-22 (VLD, HWS) |
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