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講演抄録/キーワード
講演名 2023-07-25 11:40
ナノ人工物メトリクスの耐クローン性:干渉画像の空間周波数フィルタリング
岩橋 虎宮本岩麒吉田直樹松本 勉横浜国大ISEC2023-43 SITE2023-37 BioX2023-46 HWS2023-43 ICSS2023-40 EMM2023-43
抄録 (和) 人工物メトリクスは,人工物に固有の特徴を用いて当該人工物を認証する技術である.製造者の技術的優位性をセキュリティの根拠としている従来の偽造防止技術とは異なり,製造者ですら複製困難な特徴を用いるため,クローンを作製することが極めて困難である「耐クローン性」を有することが期待できる.白色干渉計と相関係数を用いたシステムでは,干渉画像に空間周波数フィルタリングを施すことで,走査型プローブリソグラフィによって作製されたクローンを高精度に拒否できることが示されている.本稿では,干渉画像の空間周波数がシステムの耐クローン性にどのように影響を与えるかを解析し,採用すべき空間周波数フィルタリングのパラメータ選択につき考察する. 
(英) Artifact metrics is a technology that uses features unique to an artifact to authenticate the artifact in question. Unlike conventional anti-counterfeiting technology, which relies on the technical superiority of the manufacturer as the basis for security, artifact metrics is expected to be 'clone-resistant', as artifact uses features that is difficult to replicate, even for the manufacturer, therefore extremely difficult to clone. Systems based on white interferometry and correlation coefficients have been shown to be able to reject clones produced by scanning probe lithography with high accuracy by applying spatial frequency filtering to the interferogram. This paper analyses how the spatial frequency of the interferogram affects the clone resistance of the system and discusses the choice of spatial frequency filtering parameters to be employed.
キーワード (和) 人工物メトリクス / レジスト倒壊 / 白色干渉計 / 耐クローン性 / 周波数フィルタリング / / /  
(英) artifact metrics / resist collapse / white light interferometry / clonal resistance / freqency filtering / / /  
文献情報 信学技報, vol. 123, no. 132, HWS2023-43, pp. 188-193, 2023年7月.
資料番号 HWS2023-43 
発行日 2023-07-17 (ISEC, SITE, BioX, HWS, ICSS, EMM) 
ISSN Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード ISEC2023-43 SITE2023-37 BioX2023-46 HWS2023-43 ICSS2023-40 EMM2023-43

研究会情報
研究会 EMM BioX ISEC SITE ICSS HWS IPSJ-CSEC IPSJ-SPT 
開催期間 2023-07-24 - 2023-07-25 
開催地(和) 北海道自治労会館 
開催地(英) Hokkaido Jichiro Kaikan 
テーマ(和) セキュリティ、一般 (セキュリティサマーサミット2023) 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 HWS 
会議コード 2023-07-EMM-BioX-ISEC-SITE-ICSS-HWS-CSEC-SPT 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) ナノ人工物メトリクスの耐クローン性:干渉画像の空間周波数フィルタリング 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Clone Resistance of Artifact Metrics: Spatial Frequency Filtering 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 人工物メトリクス / artifact metrics  
キーワード(2)(和/英) レジスト倒壊 / resist collapse  
キーワード(3)(和/英) 白色干渉計 / white light interferometry  
キーワード(4)(和/英) 耐クローン性 / clonal resistance  
キーワード(5)(和/英) 周波数フィルタリング / freqency filtering  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 岩橋 虎 / Akira Iwahashi / イワハシ アキラ
第1著者 所属(和/英) 横浜国立大学 (略称: 横浜国大)
Yokohama National University (略称: YNU)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 宮本 岩麒 / Iwaki Miyamoto / ミヤモト イワキ
第2著者 所属(和/英) 横浜国立大学 (略称: 横浜国大)
Yokohama National University (略称: YNU)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 吉田 直樹 / Naoki Yoshida / ヨシダ ナオキ
第3著者 所属(和/英) 横浜国立大学 (略称: 横浜国大)
Yokohama National University (略称: YNU)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 松本 勉 / Tsutomu Matsumoto / マツモト ツトム
第4著者 所属(和/英) 横浜国立大学 (略称: 横浜国大)
Yokohama National University (略称: YNU)
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講演者 第1著者 
発表日時 2023-07-25 11:40:00 
発表時間 20分 
申込先研究会 HWS 
資料番号 ISEC2023-43, SITE2023-37, BioX2023-46, HWS2023-43, ICSS2023-40, EMM2023-43 
巻番号(vol) vol.123 
号番号(no) no.129(ISEC), no.130(SITE), no.131(BioX), no.132(HWS), no.133(ICSS), no.134(EMM) 
ページ範囲 pp.188-193 
ページ数
発行日 2023-07-17 (ISEC, SITE, BioX, HWS, ICSS, EMM) 


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