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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2023-11-27 13:45 c軸平行配向ZnO膜の面内配向性及び圧電性の向上と厚みすべりモード共振子への応用 ～ 基板への粒子照射方向を制限したスパッタ成膜に関する検討 ～ ○冨山直樹・高柳真司（同志社大）・柳谷隆彦（早大）  US2023-49 |
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| 抄録 | （和） | c軸が基板に対して平行に揃ったZnO膜は横波を励振でき、厚みすべりモード共振子に適している。この薄膜はRFマグネトロンスパッタ法においてターゲット付近で発生した負イオンを基板に高エネルギーで照射することにより得られる。一方で，高い圧電性を得るためにはc軸の面内方向も揃える必要がある。本報告では，RFマグネトロンスパッタ法における基板への負イオンの照射方向に着目し，基板にシールドを設置して成膜した。シールドによって負イオン照射方向を制限することで，ZnO膜の面内配向性及び圧電性が向上することが判った．そして，シールドを用いて作製したZnO膜を厚みすべりモード共振子へ応用した．その結果，シールドを用いなかった場合と比較して共振・反共振のアドミタンス比が大きくなり共振特性が向上した． |
| （英） | ZnO films with the crystalline c-axis parallel to the substrate can excite shear waves and are suitable for thickness-shear mode resonators. They were obtained by irradiating the substrate with negative ions generated near ZnO target at high energy during an RF magnetron sputtering. It is necessary to align the in-plane direction of the c-axis to obtain high piezoelectricity. In this study, we focused on the irradiation direction of negative ions to the substrate in the RF magnetron sputtering, and prepared ZnO films with shields placed on the substrate. It was found that the in-plane orientation and piezoelectricity of the ZnO film were improved by limiting the negative ion irradiation direction with the shield. Then, the ZnO film prepared with the shield was applied to a thickness-shear mode resonator. The admittance ratio between resonance and anti-resonance was larger than that without the shield, resulting in improved resonance characteristics. | |
| キーワード | （和） | 厚みすべりモード / 薄膜共振子 / ZnO / スパッタ成膜 / / / / |
| （英） | Thickness shear-mode / Thin film resonator / ZnO / Sputtering deposition / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 123, no. 286, US2023-49, pp. 34-39, 2023年11月. | |
| 資料番号 | US2023-49 | |
| 発行日 | 2023-11-20 (US) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | US2023-49 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | US |
| 開催期間 | 2023-11-27 - 2023-11-27 |
| 開催地（和） | 静岡大学 |
| 開催地（英） | Shizuoka University |
| テーマ（和） | 超音波一般 |
| テーマ（英） | Ultrasonics, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | US |
| 会議コード | 2023-11-US |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | c軸平行配向ZnO膜の面内配向性及び圧電性の向上と厚みすべりモード共振子への応用 |
| サブタイトル（和） | 基板への粒子照射方向を制限したスパッタ成膜に関する検討 |
| タイトル（英） | Improvement of in-plane orientation and piezoelectricity of c-axis parallel oriented ZnO films and their application to thickness shear-mode resonators |
| サブタイトル（英） | Investigation on limiting of particle irradiation to substrate during sputtering deposition |
| キーワード(1)（和/英） | 厚みすべりモード / Thickness shear-mode |
| キーワード(2)（和/英） | 薄膜共振子 / Thin film resonator |
| キーワード(3)（和/英） | ZnO / ZnO |
| キーワード(4)（和/英） | スパッタ成膜 / Sputtering deposition |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 冨山 直樹 / Naoki Tomiyama / トミヤマ ナオキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 同志社大学 (略称： 同志社大) Doshisha University (略称： Doshisha Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 高柳 真司 / Shinji Takayanagi / タカヤナギ シンジ |
| 第2著者 所属（和/英） | 同志社大学 (略称： 同志社大) Doshisha University (略称： Doshisha Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 柳谷 隆彦 / Yanagitani Takahiko / ヤナギタニ タカヒコ |
| 第3著者 所属（和/英） | 早稲田大学 (略称： 早大) Waseda University (略称： Waseda Univ.) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2023-11-27 13:45:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | US |
| 資料番号 | US2023-49 |
| 巻番号（vol） | vol.123 |
| 号番号（no） | no.286 |
| ページ範囲 | pp.34-39 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2023-11-20 (US) |
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