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講演抄録/キーワード
講演名 2024-02-28 16:45
Spacer-Is-Metal型側壁ダブルパターニングの配線手法の研究
田中洸樹甘利拓斗藤吉邦洋東京農工大VLD2023-105 HWS2023-65 ICD2023-94
抄録 (和) 露光可能なピッチ幅の半分のピッチ幅の配線を製造する技術の1つであるSIM型側壁ダブルパターニングは,幅一定の環状の領域から切り出すことで得られる配線パターンしか製造することができないため,配線設計が難しい.この配線問題に対して赤塚らは,ネットの端子位置関係をグラフで表し,グラフの連結成分が1つの閉路ならば配線可能であるという十分条件を明らかにし,配線方法を示した.しかし,「十字交差」と「三重重複」と名づけた端子位置関係については配線困難なので当初から除外していた.そこで本研究では,三重重複を含まない場合について,連結成分が3節点以下かつ十字交差を含むならば配線可能であるという十分条件を明らかにし,配線方法を示す.また,十字交差を含まない場合について,連結成分が三重重複をなす3節点のみの場合について,142通りに場合分けをし,そのうち25通りについて配線可能であるという十分条件を明らかにし,配線方法を示す. 
(英) SIM type Self-Aligned Double Patterning is one of the process technologies wiring with a pitch half of the exposure-possible pitch. Since wiring patterns obtained by this technology are only cut off circular areas, wiring design is difficult. To work on this problem, Akatsuka et al. clarified some sufficient conditions where given terminals can be wired and showed a wiring method in the case. However, the positional relationships of terminals he named ``Cross Crossing” and ``Triple Overlap” were excluded because of the difficulty of wiring. In this paper, only in some cases including either ``Cross Crossing” or ``Triple Overlap”, we clarify some sufficient conditions where given terminals can be wired and show a wiring method in the case.
キーワード (和) Spacer-Is-Metal型側壁ダブルパターニング / SIM型SADP / 配線設計 / LSI / / / /  
(英) Spacer-Is-Metal type Self-Aligned Double Patterning / SIM type SADP / Routing design / LSI / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 123, no. 390, VLD2023-105, pp. 36-41, 2024年2月.
資料番号 VLD2023-105 
発行日 2024-02-21 (VLD, HWS, ICD) 
ISSN Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード VLD2023-105 HWS2023-65 ICD2023-94

研究会情報
研究会 VLD HWS ICD  
開催期間 2024-02-28 - 2024-03-02 
開催地(和) 沖縄県男女共同参画センター【てぃるる】会議室1・2・3 
開催地(英)  
テーマ(和) システムオンシリコンを支える設計技術, ハードウェアセキュリティ, 一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 VLD 
会議コード 2024-02-VLD-HWS-ICD 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) Spacer-Is-Metal型側壁ダブルパターニングの配線手法の研究 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Research on Routing Method for Spacer-Is-Metal Type Self-Aligned Double Patterning 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) Spacer-Is-Metal型側壁ダブルパターニング / Spacer-Is-Metal type Self-Aligned Double Patterning  
キーワード(2)(和/英) SIM型SADP / SIM type SADP  
キーワード(3)(和/英) 配線設計 / Routing design  
キーワード(4)(和/英) LSI / LSI  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 田中 洸樹 / Koki Tanaka / タナカ コウキ
第1著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: TUAT)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 甘利 拓斗 / Takuto Amari / アマリ タクト
第2著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: TUAT)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 藤吉 邦洋 / Kunihiro Fujiyoshi / フジヨシ クニヒロ
第3著者 所属(和/英) 東京農工大学 (略称: 東京農工大)
Tokyo University of Agriculture and Technology (略称: TUAT)
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講演者 第1著者 
発表日時 2024-02-28 16:45:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 VLD 
資料番号 VLD2023-105, HWS2023-65, ICD2023-94 
巻番号(vol) vol.123 
号番号(no) no.390(VLD), no.391(HWS), no.392(ICD) 
ページ範囲 pp.36-41 
ページ数
発行日 2024-02-21 (VLD, HWS, ICD) 


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