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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2024-08-29 13:55 マグネトロンスパッタ法による炭化ホウ素薄膜の光起電力特性へのアニール効果 ○林 優佑・西田竜也・片山遼耶・小林康之・遠田義晴・鈴木裕史・中澤日出樹（弘前大）  R2024-13 EMD2024-7 CPM2024-23 OPE2024-63 LQE2024-10 |
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| 抄録 | （和） | 炭化ホウ素ターゲット(B4C)を用いたRFマグネトロンスパッタ法によりアモルファス炭化ホウ素(BxC)薄膜を作製し、ポストアニールがBxC膜特性に及ぼす影響を調べた。光学バンドギャップおよびスクラッチ試験により求められた臨界荷重はアニールによって増加した。BxC:H/n-Siヘテロ接合の光照射下での電流電圧特性を調べた結果、ポストアニールによって短絡電流密度、開放電圧および変換効率が増加した。800ºC以上のポストアニールを施すことでBxC膜の結晶化が促進されることが示唆された。 |
| （英） | We have prepared amorphous boron carbide (BxC) films by RF magnetron sputtering using a boron carbide target (B4C) and investigated the influence of post-annealing on their properties. The optical bandgap and critical load, as estimated by scratch tests, of BxC films increased by post-annealing. The current-voltage characteristics of BxC:H/n-type Si heterojunctions under white light illumination showed that the short-circuit current density, open-circuit voltage, and conversion efficiency increased by post-annealing. Crystallization of BxC films was enhanced by post-annealing at 800ºC or more. | |
| キーワード | （和） | 炭化ホウ素 / スパッタリング / アニール / 機械的特性 / 光起電力特性 / 光学バンドギャップ / / |
| （英） | Boron carbide / Sputtering / Annealing / Mechanical properties / Photovoltaic properties / Optical bandgap / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 124, no. 169, CPM2024-23, pp. 5-8, 2024年8月. | |
| 資料番号 | CPM2024-23 | |
| 発行日 | 2024-08-22 (R, EMD, CPM, OPE, LQE) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | R2024-13 EMD2024-7 CPM2024-23 OPE2024-63 LQE2024-10 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM LQE OPE EMD R |
| 開催期間 | 2024-08-29 - 2024-08-30 |
| 開催地（和） | 弘前大学文京町地区キャンパス 創立50周年記念会館 |
| 開催地（英） | Hirosaki University |
| テーマ（和） | 受光素子，変調器，光部品・電子デバイス実装・信頼性，及び一般 |
| テーマ（英） | Photodetectors, Modulators, Optical Electrical device packaging and reliability |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2024-08-CPM-LQE-OPE-EMD-R |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | マグネトロンスパッタ法による炭化ホウ素薄膜の光起電力特性へのアニール効果 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Annealing effects on the photovoltaic properties of boron carbide films prepared by magnetron sputtering |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 炭化ホウ素 / Boron carbide |
| キーワード(2)（和/英） | スパッタリング / Sputtering |
| キーワード(3)（和/英） | アニール / Annealing |
| キーワード(4)（和/英） | 機械的特性 / Mechanical properties |
| キーワード(5)（和/英） | 光起電力特性 / Photovoltaic properties |
| キーワード(6)（和/英） | 光学バンドギャップ / Optical bandgap |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 林 優佑 / Yusuke Hayashi / ハヤシ ユウスケ |
| 第1著者 所属（和/英） | 弘前大学 (略称： 弘前大) Hirosaki University (略称： Hirosaki Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 西田 竜也 / Tatsuya Nishida / ニシダ タツヤ |
| 第2著者 所属（和/英） | 弘前大学 (略称： 弘前大) Hirosaki University (略称： Hirosaki Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 片山 遼耶 / Ryoya Katayama / カタヤマ リョウヤ |
| 第3著者 所属（和/英） | 弘前大学 (略称： 弘前大) Hirosaki University (略称： Hirosaki Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小林 康之 / Yasuyuki Kobayashi / コバヤシ ヤスユキ |
| 第4著者 所属（和/英） | 弘前大学 (略称： 弘前大) Hirosaki University (略称： Hirosaki Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 遠田 義晴 / Yoshiharu Enta / エンタ ヨシハル |
| 第5著者 所属（和/英） | 弘前大学 (略称： 弘前大) Hirosaki University (略称： Hirosaki Univ.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 鈴木 裕史 / Yushi Suzuki / スズキ ユウシ |
| 第6著者 所属（和/英） | 弘前大学 (略称： 弘前大) Hirosaki University (略称： Hirosaki Univ.) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 中澤 日出樹 / Hideki Nakazawa / |
| 第7著者 所属（和/英） | 弘前大学 (略称： 弘前大) Hirosaki University (略称： Hirosaki Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2024-08-29 13:55:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | R2024-13, EMD2024-7, CPM2024-23, OPE2024-63, LQE2024-10 |
| 巻番号（vol） | vol.124 |
| 号番号（no） | no.167(R), no.168(EMD), no.169(CPM), no.170(OPE), no.171(LQE) |
| ページ範囲 | pp.5-8 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2024-08-22 (R, EMD, CPM, OPE, LQE) |
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