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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2024-10-24 14:50 Investigation of post-metallization annealing condition on the ferroelectric HfN1.15 thin film formation ○Kangbai Li・Shun-ichiro Ohmi（Tokyo Tech.）  SDM2024-49 |
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| 抄録 | （和） | (まだ登録されていません) |
| （英） | In this paper, the annealing condition and Ar/N2 gas flow rate dependences on the ferroelectric HfN1.15 formed by ECR-plasma sputtering was investigated. The equivalent oxide thickness (EOT) of 2.74 nm was obtained with Ar/N2 gas flow rate of 8/7 sccm followed by the 400°C/5 min post metallization annealing (PMA) in N2. The EOT was decreased to 1.50 nm with the deposition of the Ar/N2 gas flow rate of 14/14 sccm. However, the leakage current increased which led to the degradation of ferroelectric property. | |
| キーワード | （和） | / / / / / / / |
| （英） | Hafnium nitride / ECR-plasma sputtering / gas flow rate / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 124, no. 222, SDM2024-49, pp. 26-28, 2024年10月. | |
| 資料番号 | SDM2024-49 | |
| 発行日 | 2024-10-17 (SDM) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SDM2024-49 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
| 開催期間 | 2024-10-24 - 2024-10-24 |
| 開催地（和） | 東北大学未来情報産業研究館５Ｆ |
| 開催地（英） | NICHe, Tohoku Univ. |
| テーマ（和） | プロセス科学と新プロセス技術 |
| テーマ（英） | Process Science and New Process Technology |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2024-10-SDM |
| 本文の言語 | 英語 |
| タイトル（和） | |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Investigation of post-metallization annealing condition on the ferroelectric HfN1.15 thin film formation |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | / Hafnium nitride |
| キーワード(2)（和/英） | / ECR-plasma sputtering |
| キーワード(3)（和/英） | / gas flow rate |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | Kangbai Li / Kangbai Li / Kangbai Li |
| 第1著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 大見 俊一郎 / Shun-ichiro Ohmi / |
| 第2著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2024-10-24 14:50:00 |
| 発表時間 | 20分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2024-49 |
| 巻番号（vol） | vol.124 |
| 号番号（no） | no.222 |
| ページ範囲 | pp.26-28 |
| ページ数 | 3 |
| 発行日 | 2024-10-17 (SDM) |
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