講演抄録/キーワード |
講演名 |
2024-10-31 14:00
低温成膜したSiOx膜の特性に及ぼすスパッタ電力の影響 ○新出航大・佐藤 勝・武山真弓(北見工大) MRIS2024-11 CPM2024-40 |
抄録 |
(和) |
絶縁膜は、LSIや3次元LSIなどの分野において、低温で作製することが強く望まれている。しかしながら、低温で成膜された膜は通常劣化を伴うことが問題視されている。我々の以前の研究では、スパッタリング条件を変えて低温でSiNx膜を作製し、良好な結果を得ているため、本研究では、代表的な絶縁膜材料であるSiOx膜を室温にて成膜し、そのスパッタ条件を変化させ、低温でのSiOx膜の特性にどのような影響を与えるのか検討したので以下に報告する。 |
(英) |
The insulating films deposited at low-temperatures such as SiNx and SiOx are strongly required in the LSI and 3D-LSI technology. However, film degradation is often caused by the low-temperature deposition. In our previous study, we prepared the low-temperature deposited SiNx films by changing the sputtering conditions and obtained favorable properties. In this study, we prepared the sputtered SiOx films without substrate heating and changing the sputtering conditions. We consider effect on the properties of the SiOx films at low-temperature. |
キーワード |
(和) |
LSI / 絶縁膜 / SiOx膜 / 低温成膜 / / / / |
(英) |
LSI / insulating film / SiOx film / low-temperature deposition / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 124, no. 228, CPM2024-40, pp. 15-16, 2024年10月. |
資料番号 |
CPM2024-40 |
発行日 |
2024-10-24 (MRIS, CPM) |
ISSN |
Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
MRIS2024-11 CPM2024-40 |
研究会情報 |
研究会 |
MRIS CPM ITE-MMS |
開催期間 |
2024-10-31 - 2024-11-01 |
開催地(和) |
信州大学長野(工学)キャンパス |
開催地(英) |
Nagano Camp. Shinshu Univ. + Online |
テーマ(和) |
スピントロニクス・固体メモリ・機能性材料・薄膜プロセス・材料・デバイス+一般 |
テーマ(英) |
Spintronics, Solid State Memory, Functional material, Thin film process, Material, Devices, etc. |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
CPM |
会議コード |
2024-10-MRIS-CPM-MMS |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
低温成膜したSiOx膜の特性に及ぼすスパッタ電力の影響 |
サブタイトル(和) |
|
タイトル(英) |
Effects of Sputtering Power on Characterization of SiOx Film Deposited at Low Temperatures |
サブタイトル(英) |
|
キーワード(1)(和/英) |
LSI / LSI |
キーワード(2)(和/英) |
絶縁膜 / insulating film |
キーワード(3)(和/英) |
SiOx膜 / SiOx film |
キーワード(4)(和/英) |
低温成膜 / low-temperature deposition |
キーワード(5)(和/英) |
/ |
キーワード(6)(和/英) |
/ |
キーワード(7)(和/英) |
/ |
キーワード(8)(和/英) |
/ |
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
新出 航大 / Kota Niide / ニイデ コウタ |
第1著者 所属(和/英) |
北見工業大学 (略称: 北見工大)
Kitami Institute of Technology (略称: Kitami Inst. Tech.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
佐藤 勝 / Masaru Sato / サトウ マサル |
第2著者 所属(和/英) |
北見工業大学 (略称: 北見工大)
Kitami Institute of Technology (略称: Kitami Inst. Tech.) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
武山 真弓 / Mayumi B. Takeyama / タケヤマ マユミ |
第3著者 所属(和/英) |
北見工業大学 (略称: 北見工大)
Kitami Institute of Technology (略称: Kitami Inst. Tech.) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第4著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第5著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第6著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第7著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第8著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第9著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第10著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第11著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第12著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第13著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第14著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第15著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第16著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第17著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第18著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第19著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第20著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第21著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第21著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第22著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第22著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第23著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第23著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第24著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第24著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第25著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第25著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第26著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第26著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第27著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第27著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第28著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第28著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第29著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第29著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第30著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第30著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第31著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第31著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第32著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第32著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第33著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第33著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第34著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第34著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第35著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第35著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第36著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第36著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2024-10-31 14:00:00 |
発表時間 |
20分 |
申込先研究会 |
CPM |
資料番号 |
MRIS2024-11, CPM2024-40 |
巻番号(vol) |
vol.124 |
号番号(no) |
no.227(MRIS), no.228(CPM) |
ページ範囲 |
pp.15-16 |
ページ数 |
2 |
発行日 |
2024-10-24 (MRIS, CPM) |
|