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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2024-11-01 11:10 金属触媒を用いた石英基板上グラフェンの直接成長 ○工藤 彰・齋藤遼佑・中澤日出樹（弘前大）  MRIS2024-23 CPM2024-52 |
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| 抄録 | （和） | 真空蒸着法により石英ガラス基板上に金属触媒層を作製し、その上にパルスレーザー堆積法により炭素膜を堆積させることで、絶縁性基板上にグラフェンを直接成長させる方法について検討した。金属触媒として Niを採用し、Ni 層の堆積温度、アニール温度および膜厚を変化させたときの結晶構造および表面形態の変化を調べた。 Ni 層の膜厚を 30 nm から 100 nm にすることでアニールによる石英ガラス基板上ディウェッティングの発生を抑制することに成功した。しかし、Ni 層が多結晶であったため、ガラス基板上 Ni 層の作製プロセスの最適化が必要である。 |
| （英） | We have studied the direct growth of graphene on an insulator substrate by pulsed laser deposition of a carbon film on a metal catalyst layer prepared on a quartz glass substrate by vacuum evaporation. We used Ni as a metal catalyst and investigated the structure and surface morphology of the Ni layers deposited at various deposition temperatures, annealing temperatures, and thicknesses. When the thickness of the Ni layers was increased from 30 nm to 100 nm, the dewetting of Ni on the glass substrates was successfully suppressed. However, as the Ni layer was polycrystalline, it is necessary to optimize the preparation processes of the Ni layers on the glass substrates. | |
| キーワード | （和） | グラフェン / Ni / ガラス基板 / パルスレーザー堆積法 / 真空蒸着 / / / |
| （英） | graphene / Ni / Glass substrate / Pulsed laser deposition / Vacuum evaporation / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 124, no. 228, CPM2024-52, pp. 64-67, 2024年10月. | |
| 資料番号 | CPM2024-52 | |
| 発行日 | 2024-10-24 (MRIS, CPM) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | MRIS2024-23 CPM2024-52 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | MRIS CPM ITE-MMS |
| 開催期間 | 2024-10-31 - 2024-11-01 |
| 開催地（和） | 信州大学長野(工学)キャンパス |
| 開催地（英） | Nagano Camp. Shinshu Univ. + Online |
| テーマ（和） | スピントロニクス・固体メモリ・機能性材料・薄膜プロセス・材料・デバイス＋一般 |
| テーマ（英） | Spintronics, Solid State Memory, Functional material, Thin film process, Material, Devices, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2024-10-MRIS-CPM-MMS |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 金属触媒を用いた石英基板上グラフェンの直接成長 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Direct growth of graphene on quartz substrates using metal catalysts |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | グラフェン / graphene |
| キーワード(2)（和/英） | Ni / Ni |
| キーワード(3)（和/英） | ガラス基板 / Glass substrate |
| キーワード(4)（和/英） | パルスレーザー堆積法 / Pulsed laser deposition |
| キーワード(5)（和/英） | 真空蒸着 / Vacuum evaporation |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 工藤 彰 / Akira Kudo / クドウ アキラ |
| 第1著者 所属（和/英） | 弘前大学 (略称： 弘前大) Hirosaki University (略称： Hirosaki Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 齋藤 遼佑 / Ryosuke Saito / サイトウ リョウスケ |
| 第2著者 所属（和/英） | 弘前大学 (略称： 弘前大) Hirosaki University (略称： Hirosaki Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 中澤 日出樹 / Hideki Nakazawa / ナカザワ ヒデキ |
| 第3著者 所属（和/英） | 弘前大学 (略称： 弘前大) Hirosaki University (略称： Hirosaki Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2024-11-01 11:10:00 |
| 発表時間 | 20分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | MRIS2024-23, CPM2024-52 |
| 巻番号（vol） | vol.124 |
| 号番号（no） | no.227(MRIS), no.228(CPM) |
| ページ範囲 | pp.64-67 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2024-10-24 (MRIS, CPM) |
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