| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 講演論文 詳細 |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
| トップに戻る | 前のページに戻る | [Japanese] / [English] |
| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2024-11-28 16:55 時間分解PL測定によるInGaN量子井戸におけるキャリア拡散の測定 ○伊藤央祐・山口敦史（金沢工大）・伊藤まいこ・幸田倫太郎・濱口達史（ソニーセミコンダクタソリューションズ）  ED2024-27 CPM2024-71 LQE2024-58 |
|
| 抄録 | （和） | InGaN量子井戸におけるキャリア拡散過程は，ポテンシャル揺らぎなどの影響を受け，複雑であると考えられる．キャリアの拡散定数についてこれまで様々な報告があるが，拡散定数の値が小さいという報告もあれば大きいという報告もあり，必ずしも明らかになっていない．拡散定数を求めるための実験方法として，Transient Grating法やスポット径測定が主に行われているが，発光の再吸収によりどちらの実験においても拡散定数が大きく見積もられる可能性がある．そこで，本研究では，発光の再吸収の影響を受けにくい手法として，InGaN-QW試料表面に金属マスクを形成し，マスクに微小な穴を開け，その穴を通して光励起し時間分解発光(PL)測定を行い，その結果を穴の径の異なるもので比較することにより拡散定数を求める実験を行った．今回得られた結果から，InGaN-QWにおけるキャリア輸送特性はポテンシャル揺らぎによるキャリアの局在・非局在との関連が示唆された． |
| （英） | Carrier diffusion processes in InGaN quantum wells (QWs) will probably be largely influenced by potential fluctuation in the QWs, and are not so simple. Various studies have reported the diffusion constants, but the values are quite scattered. The transient Grating technique and spot size measurements are commonly used to determine the diffusion constants, but both methods can overestimate the values due to the reabsorption of emitted light. In this study, we have measured the diffusion constants in an InGaN QW sample by another method, in which the light reabsorption cannot affect the estimation. A metal mask with small holes is deposited to the InGaN-QW sample, and time-resolved photoluminescence (PL) measurements were performed through the holes. By comparing results for different hole sizes, carrier diffusion constants can be estimated, and the results suggest the carrier transport properties are related with the localization due to potential fluctuations. | |
| キーワード | （和） | InGaN 量子井戸 / 時間分解PL測定 / キャリア拡散 / / / / / |
| （英） | InGaN quantum wells / time-resolved PL measurements / carrier diffusion / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 124, no. 280, LQE2024-58, pp. 29-32, 2024年11月. | |
| 資料番号 | LQE2024-58 | |
| 発行日 | 2024-11-21 (ED, CPM, LQE) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | ED2024-27 CPM2024-71 LQE2024-58 |
|
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED CPM LQE |
| 開催期間 | 2024-11-28 - 2024-11-29 |
| 開催地（和） | 名古屋工業大学 (窒化物半導体マルチビジネス創生センター) |
| 開催地（英） | Nagoya Institute of Technology |
| テーマ（和） | 窒化物半導体光・電子デバイス・材料，関連技術，及び一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | LQE |
| 会議コード | 2024-11-ED-CPM-LQE |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 時間分解PL測定によるInGaN量子井戸におけるキャリア拡散の測定 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Carrier diffusion processes in InGaN quantum wells measured by time-resolved PL measurements |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | InGaN 量子井戸 / InGaN quantum wells |
| キーワード(2)（和/英） | 時間分解PL測定 / time-resolved PL measurements |
| キーワード(3)（和/英） | キャリア拡散 / carrier diffusion |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 伊藤 央祐 / Osuke Ito / イトウ オウスケ |
| 第1著者 所属（和/英） | 金沢工業大学 (略称： 金沢工大) Kanazawa Institute of Technology (略称： Kanazawa Inst. Tech.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 山口 敦史 / Atsushi A. Yamaguchi / ヤマグチ アツシ |
| 第2著者 所属（和/英） | 金沢工業大学 (略称： 金沢工大) Kanazawa Institute of Technology (略称： Kanazawa Inst. Tech.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 伊藤 まいこ / Maiko Ito / |
| 第3著者 所属（和/英） | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 (略称： ソニーセミコンダクタソリューションズ) Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称： Sony Semiconductor Solutions Corp.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 幸田 倫太郎 / Rintaro Koda / |
| 第4著者 所属（和/英） | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 (略称： ソニーセミコンダクタソリューションズ) Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称： Sony Semiconductor Solutions Corp.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 濱口 達史 / Tatsushi Hamaguchi / |
| 第5著者 所属（和/英） | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 (略称： ソニーセミコンダクタソリューションズ) Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称： Sony Semiconductor Solutions Corp.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2024-11-28 16:55:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | LQE |
| 資料番号 | ED2024-27, CPM2024-71, LQE2024-58 |
| 巻番号（vol） | vol.124 |
| 号番号（no） | no.278(ED), no.279(CPM), no.280(LQE) |
| ページ範囲 | pp.29-32 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2024-11-21 (ED, CPM, LQE) |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]