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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2025-11-14 13:30 マイクロ波プラズマALDを用いた窒化アルミニウム薄膜の試作と評価 ○髙橋知也・三浦正範・宮澤 諒・廣瀬文彦（山形大）  EE2025-24 CPM2025-45 OME2025-25 |
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| 抄録 | （和） | 次世代半導体デバイスの実現には、低温かつ酸素フリーで成膜可能な高品質パッシベーション膜が不可欠である。本研究では、この要求を満たす材料として窒化アルミニウム（AlN）に着目した。従来の低温原子層堆積法（ALD）では、膜中の炭素や酸素といった不純物残留が課題であった。そこで本研究では、窒化ガスの工夫とArプラズマ処理工程の追加により、低温ALDプロセスでありながら膜中の不純物濃度を低減することに成功した。本発表では、これらの手法を用いて作製したAlN膜の高品質化に関する結果を報告する。 |
| （英） | The realization of next-generation semiconductor devices requires high-quality passivation films that can be deposited at low temperatures and in an oxygen-free environment. This research focuses on aluminum nitride (AlN) as a material meeting these requirements. Conventional low-temperature atomic layer deposition (ALD) faced challenges with residual impurities such as carbon and oxygen within the film. Therefore, this study successfully reduced impurity concentrations in the film while maintaining a low-temperature ALD process by modifying the nitride gas and adding an Ar plasma treatment step. This presentation reports results on enhancing the quality of AlN films fabricated using these techniques. | |
| キーワード | （和） | 原子層堆積法 / 窒化アルミニウム / マイクロ波 / / / / / |
| （英） | ALD / AlN / Microwave / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 125, no. 251, CPM2025-45, pp. 5-8, 2025年11月. | |
| 資料番号 | CPM2025-45 | |
| 発行日 | 2025-11-07 (EE, CPM, OME) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | EE2025-24 CPM2025-45 OME2025-25 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | EE OME CPM |
| 開催期間 | 2025-11-14 - 2025-11-14 |
| 開催地（和） | 山形大学工学部米沢キャンパス 有機EL研究センター（10号館） 4F大会議室 |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | エネルギー技術，半導体電力変換，電池，電気化学デバイス，材料，一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2025-11-EE-OME-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | マイクロ波プラズマALDを用いた窒化アルミニウム薄膜の試作と評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Fabrication of Aluminum Nitride Thin Films Using Microwave Plasma ALD |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 原子層堆積法 / ALD |
| キーワード(2)（和/英） | 窒化アルミニウム / AlN |
| キーワード(3)（和/英） | マイクロ波 / Microwave |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 髙橋 知也 / Tomoya Takahashi / タカハシ トモヤ |
| 第1著者 所属（和/英） | 山形大学 (略称： 山形大) Yamagata University (略称： Yamagata Univ) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 三浦 正範 / Masanori Miura / ミウラ マサノリ |
| 第2著者 所属（和/英） | 山形大学 (略称： 山形大) Yamagata University (略称： Yamagata Univ) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 宮澤 諒 / Ryo Miyazawa / ミヤザワ リョウ |
| 第3著者 所属（和/英） | 山形大学 (略称： 山形大) Yamagata University (略称： Yamagata Univ) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 廣瀬 文彦 / Fumihiko Hirose / ヒロセ フミヒコ |
| 第4著者 所属（和/英） | 山形大学 (略称： 山形大) Yamagata University (略称： Yamagata Univ) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2025-11-14 13:30:00 |
| 発表時間 | 30分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | EE2025-24, CPM2025-45, OME2025-25 |
| 巻番号（vol） | vol.125 |
| 号番号（no） | no.250(EE), no.251(CPM), no.252(OME) |
| ページ範囲 | pp.5-8 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2025-11-07 (EE, CPM, OME) |
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