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講演抄録/キーワード
講演名 2025-11-14 13:20
[招待講演]SISPAD2025 レビュー
相馬聡文神戸大SDM2025-61
抄録 (和) 半導体プロセス・デバイスシミュレーション分野の専門国際会議である
International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices 2025
(SISPAD2025)が2025年9月23日から9月26日にかけてグルノーブル(フランス)で開催された.
この報告では当会議の全体的傾向を振り返るとともに,発表された論文の中から一部をセレクトしそれらの内容についてレビューする. 
(英) International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices 2025 (SISPAD 2025)
was held on September 23 -- 26 in Grenoble (France).
In this report, will review several papers presented at the conference in detail as well as discuss the overall trends of
the technological topics included in this year's program.
キーワード (和) SISPAD2025 / レビュー / / / / / /  
(英) SISPAD2025 / review / / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 125, no. 246, SDM2025-61, pp. 34-39, 2025年11月.
資料番号 SDM2025-61 
発行日 2025-11-06 (SDM) 
ISSN Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード SDM2025-61

研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2025-11-13 - 2025-11-14 
開催地(和) 機械振興会館 5階 5S-2 会議室 
開催地(英)  
テーマ(和) プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 
テーマ(英) Process, Device, Circuit simulation, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2025-11-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) SISPAD2025 レビュー 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) SISPAD2025 Review 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) SISPAD2025 / SISPAD2025  
キーワード(2)(和/英) レビュー / review  
キーワード(3)(和/英) /  
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キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 相馬 聡文 / Satofumi Souma / ソウマ サトフミ
第1著者 所属(和/英) 神戸大学 (略称: 神戸大)
Kobe University (略称: Kobe Univ)
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講演者 第1著者 
発表日時 2025-11-14 13:20:00 
発表時間 50分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2025-61 
巻番号(vol) vol.125 
号番号(no) no.246 
ページ範囲 pp.34-39 
ページ数
発行日 2025-11-06 (SDM) 


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