| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 講演論文 詳細 |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
| トップに戻る | 前のページに戻る | [Japanese] / [English] |
| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2025-12-12 09:25 TiNコートしたSiエミッタアレイにおけるTiN膜特性と電子放出特性の評価 ○村田博雅（産総研）・大住知暉（京大/産総研）・後藤康仁（京大）・村上勝久・長尾昌善（産総研）  ED2025-47 |
|
| 抄録 | （和） | 我々の研究グループでは，Siエミッタ表面のTiNコーティングによる大電流動作に取り組んでいる．これまでに，Siエミッタ上にTiターゲットとN2ガスの反応性スパッタリングによりTiNコーティングを施すことで約1000チップのエミッタアレイから約8 mAという大電流動作を実証している．一方で，TiNのスパッタリング成膜条件とエミッタアレイの電子放出特性の相関は明らかになっていない．本研究では，スパッタリングに用いるAr/N2ガス流量・比を変えてTiNを成膜し，電子放出特性に与える影響を調査した． |
| （英） | We have previously demonstrated a large emission current of approximately 8 mA from ~1000 tips emitter array by depositing a TiN coating on Si emitter via reactive sputtering using a Ti target and an N₂ gas. Although the properties of TiN coating film strongly depend on the sputtering condition, the correlation between the sputtering deposition conditions of TiN and the electron emission characteristics of the emitter array has not yet been clarified. In this study, we investigated the effect of the Ar/N₂ gas flow ratio during sputtering on their electron emission characteristics. | |
| キーワード | （和） | TiN / フィールドエミッタアレイ / / / / / / |
| （英） | TiN / Field emitter array / / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 125, no. 287, ED2025-47, pp. 22-23, 2025年12月. | |
| 資料番号 | ED2025-47 | |
| 発行日 | 2025-12-04 (ED) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | ED2025-47 |
|
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED |
| 開催期間 | 2025-12-11 - 2025-12-12 |
| 開催地（和） | ウインクあいち（愛知県産業労働センター） |
| 開催地（英） | WINC AICHI |
| テーマ（和） | 電子・イオンビーム応用 |
| テーマ（英） | Applications of electron and ion beam |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | ED |
| 会議コード | 2025-12-ED |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | TiNコートしたSiエミッタアレイにおけるTiN膜特性と電子放出特性の評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Evaluation of TiN film properties and electron emission characteristics in TiN-coated Si emitter arrays |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | TiN / TiN |
| キーワード(2)（和/英） | フィールドエミッタアレイ / Field emitter array |
| キーワード(3)（和/英） | / |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 村田 博雅 / Hiromasa Murata / ムラタ ヒロマサ |
| 第1著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： AIST) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 大住 知暉 / Tomoaki Osumi / オオスミ トモアキ |
| 第2著者 所属（和/英） | 京都大学/産業技術総合研究所 (略称： 京大/産総研) Kyoto University/National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： Kyoto Univ./AIST) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 後藤 康仁 / Yasuhito Gotoh / ゴトウ ヤスヒト |
| 第3著者 所属（和/英） | 京都大学 (略称： 京大) Kyoto University (略称： Kyoto Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 村上 勝久 / Katsuhisa Murakami / ムラカミ カツヒサ |
| 第4著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： AIST) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 長尾 昌善 / Masayoshi Nagao / ナガオ マサヨシ |
| 第5著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 (略称： 産総研) National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： AIST) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2025-12-12 09:25:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | ED |
| 資料番号 | ED2025-47 |
| 巻番号（vol） | vol.125 |
| 号番号（no） | no.287 |
| ページ範囲 | pp.22-23 |
| ページ数 | 2 |
| 発行日 | 2025-12-04 (ED) |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]