| 講演抄録/キーワード |
| 講演名 |
2026-01-28 13:35
[招待講演]大容量・低消費電力AIメモリ向け酸化物半導体チャネルトランジスタ DRAM (OCTRAM) ○前田 健(キオクシア) SDM2025-66 |
| 抄録 |
(和) |
AI技術の急速な進展に伴い、大容量かつ低消費電力な高性能DRAMが強く求められている。我々は、キャパシタ上に極低オフリーク(<1018A/cell)特性を有する酸化物半導体(InGaZnO)チャネルトランジスタを縦型積層した4F2型DRAM(OCTRAM)を試作した。本稿では、OCTRAMの優れたデータ保持特性と消費電力低減効果について報告する。 |
| (英) |
With the rapid advancement of AI technology, there is a growing demand for high-performance DRAM that is both high-density and low-power. We have developed a 4F2 structure DRAM (OCTRAM) with the oxide semiconductor (InGaZnO) channel transistors that exhibit extremely low off-leakage characteristics (<1018A/cell). In this paper, we demonstrate the advantages of oxide semiconductors, including long data retention characteristics and low power consumption. |
| キーワード |
(和) |
InGaZnO / 酸化物半導体 / 縦型トランジスタ / DRAM / AI / 大容量 / 低消費電力 / OCTRAM |
| (英) |
InGaZnO / oxide semiconductor / vertical channel transistor / DRAM / AI / high density / low power / OCTRAM |
| 文献情報 |
信学技報, vol. 125, no. 347, SDM2025-66, pp. 5-6, 2026年1月. |
| 資料番号 |
SDM2025-66 |
| 発行日 |
2026-01-21 (SDM) |
| ISSN |
Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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SDM2025-66 |