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シリコン材料・デバイス研究会(SDM) [schedule] [select]
専門委員長 品田 高宏 (東北大)
副委員長 平野 博茂 (パナソニック・タワージャズ)
幹事 池田 浩也 (静岡大), 諸岡 哲 (東芝メモリー)
幹事補佐 森 貴洋 (産総研), 小林 伸彰 (日大)

日時 2019年 2月 7日(木) 10:00 - 16:55
議題 配線・実装技術と関連材料技術 
会場名 東京大学/本郷キャンパス 42講義室 
他の共催 ◆応用物理学会共催
著作権に
ついて
以下の論文すべての著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
参加費に
ついて
この開催は「技報完全電子化」研究会です.参加費(SDM研究会)についてはこちらをご覧ください

2月7日(木)   42講義室
10:00 - 16:55
  10:00-10:05 開会 ( 5分 )
(1) 10:05-10:45 [招待講演]高精度デュアルダマシン加工技術 早川 崇藤川 誠東京エレクトロン)・野沢秀二山口達也東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ
(2) 10:45-11:25 [招待講演]ナノインプリントによるハーフピッチ14nm直接パターニング SDM2018-91 中杉哲郎東芝メモリ
(3) 11:25-12:05 [招待講演]誘導自己組織化による極微細三次元配線形成技術 SDM2018-92 福島誉史・○マリアッパン ムルゲサン小柳光正東北大
  12:05-13:10 昼食 ( 65分 )
(4) 13:10-13:50 [招待講演]Stress Investigation of Annular-Trench-Isolated (ATI) Through Silicon Via (TSV) SDM2018-93 Wei FengNaoya WatanabeHaruo ShimamotoMasahiro AoyagiKatsuya KikuchiAIST
(5) 13:50-14:30 [招待講演]めっき銅薄膜配線の機械特性とEM耐性の結晶粒界品質依存性 SDM2018-94 罗 轶凡名越優太郎水野涼太鈴木 研・○三浦英生東北大
(6) 14:30-15:10 [招待講演]p型GaN上に形成した単結晶Al配線およびそのGaN FETへの応用 SDM2018-95 原田剛史宇高孝二神田裕介大西克彦パナソニック セミコンダクターソリューションズ)・松永啓一引田正洋上本康裕パナソニック
  15:10-15:30 休憩 ( 20分 )
(7) 15:30-16:10 [招待講演]微細CMOS向け新コンタクト材料:クラスター気相合成法で形成したSiリッチWシリサイド膜 SDM2018-96 岡田直也内田紀行小川真一金山敏彦産総研
(8) 16:10-16:50 [招待講演]平滑なAuナノ薄膜を有する大気中にて常温接合可能な基板作製技術 SDM2018-97 松前貴司山本道貴倉島優一日暮栄治高木秀樹産総研
  16:50-16:55 閉会 ( 5分 )

講演時間
招待講演発表 35 分 + 質疑応答 5 分

問合先と今後の予定
SDM シリコン材料・デバイス研究会(SDM)   [今後の予定はこちら]
問合先 諸岡 哲(東芝メモリ)
Tel 059-390-7451 Fax 059-361-2739
E--mail: ba 


Last modified: 2018-12-18 16:46:36


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