6月19日(金) 午後  機構デバイス・材料デバイスサマーミーティング 13:00 - 17:35
	13:00-13:05	委員長挨拶　（ 5分 ）
(1)	13:05-13:30	YAlO3(001)基板表面処理条件の違いによるCr2O3薄膜の結晶成長 EMD2015-11 CPM2015-21 OME2015-24	○橋本浩佑・隅田貴士・林　佑太郎・福井慎二郎・永田知子・山本　寛・岩田展幸（日大）
(2)	13:30-13:55	ペチーニ法で作製したBi1+xFeO3 (x = 0.0, 0.2)ターゲットおよび パルスレーザー堆積法で作製したBiFeO3薄膜の化学当量性の評価 EMD2015-12 CPM2015-22 OME2015-25	○王　春・大島佳祐・稲葉隆哲・宋　華平・渡部雄太・永田知子・橋本拓也・高瀬浩一・山本　寛・岩田展幸（日大）
(3)	13:55-14:20	化学気相成長法を用いて作製した単層グラフェンの積層による2層グラフェンの作製と電気特性 EMD2015-13 CPM2015-23 OME2015-26	○星野　崚・林　佑太郎・今井健太郎・鈴木　希・永田知子・岩田展幸・山本　寛（日大）
	14:20-14:30	休憩　（ 10分 ）
(4)	14:30-14:55	大気圧CVD法による酸化スズ及び酸化ガリウムナノワイヤーの成長 EMD2015-14 CPM2015-24 OME2015-27	○寺迫智昭・倉重利規（愛媛大）・矢木正和（香川高専）
(5)	14:55-15:20	触媒反応支援CVD法によるガラス基板上ZnO膜成長におけるN2O添加初期層の効果 EMD2015-15 CPM2015-25 OME2015-28	○叶内慎吾・石塚侑己・大橋優樹（長岡技科大）・大石耕一郎・片桐裕則（長岡高専）・玉山泰宏・安井寛治（長岡技科大）
(6)	15:20-15:45	触媒反応生成高エネルギーH2Oビームのノズル開口角依存性 EMD2015-16 CPM2015-26 OME2015-29	寺口祐介・田島諒一・中村友紀・高橋一匡・玉山泰宏・○安井寛治（長岡技科大）
	15:45-15:55	休憩　（ 10分 ）
(7)	15:55-16:20	統計的手法を用いた微摺動機構による電気接点劣化現象解析 ～ いくつかの実験条件下における最小摺動振幅データを用いた統計解析 ～ EMD2015-17 CPM2015-27 OME2015-30	○越田圭治・和田真一・久保田洋彰（TMCシステム）・澤　孝一郎（日本工大）
(8)	16:20-16:45	金属ガラス薄帯へのアルミニウム薄板の電磁圧接 EMD2015-18 CPM2015-28 OME2015-31	○相沢友勝（都立高専）・松澤和夫（都立産技高専）・網谷健児（東北大）
(9)	16:45-17:10	異なる電極開離速度におけるAgSnO2接点対による直流負荷電流遮断時のアーク放電特性に関する実験的検討 EMD2015-19 CPM2015-29 OME2015-32	○長谷川　誠（千歳科技大）
(10)	17:10-17:35	電界誘起光第2次高調波発生法による有機材料中の3次元電界評価 EMD2015-20 CPM2015-30 OME2015-33	○間中孝彰・岩本光正（東工大）
	17:35-17:40	委員長挨拶　（ 5分 ）

問合先と今後の予定
OME	有機エレクトロニクス研究会（OME）   [今後の予定はこちら]
	問合先	森 竜雄（愛工大） E-: t2ai 瀧本 清(キヤノン電子） E-: can-elec
EMD	機構デバイス研究会（EMD）   [今後の予定はこちら]
	問合先	関川 純哉（静岡大学） TEL (053) 478-1618、FAX (053) 478-1618 E-: tjkipc 久我 宣裕（横浜国立大学） TEL (045)339-4279、FAX (045)339-4279 E-: y 服部 康弘（住友電装） TEL (059)382-8634、FAX (059)382-8591 E-: -tsws 阿部 宜輝（NTTデバイスイノベーションセンタ） TEL (046)240-2262、FAX (046)270-6421 E-: abe
	お知らせ	◎EMD研究会に関する最新の情報は、http://www.ieice.org/es/emd/jpn/をご参照ください。
CPM	電子部品・材料研究会（CPM）   [今後の予定はこちら]
	問合先

Last modified: 2015-04-17 13:27:06