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シリコン材料・デバイス研究会 (SDM) (検索条件: 2018年度)
「from:2019-02-07 to:2019-02-07」による検索結果
| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| SDM | 2019-02-07 10:05 |
東京 | 東京大学/本郷 工学部４号館 42講義室 | ［招待講演］高精度デュアルダマシン加工技術 ○早川 崇・藤川 誠（東京エレクトロン）・野沢秀二・山口達也（東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ） |
[more] | |
| SDM | 2019-02-07 10:45 |
東京 | 東京大学/本郷 工学部４号館 42講義室 | ［招待講演］ナノインプリントによるハーフピッチ14nm直接パターニング ○中杉哲郎（東芝メモリ）  SDM2018-91 |
本稿ではIEDM2018で報告したNILシングル露光によるhp14nmパターン形成技術について報告する。従来課題とされて... [more] | SDM2018-91 pp.1-4 |
| SDM | 2019-02-07 11:25 |
東京 | 東京大学/本郷 工学部４号館 42講義室 | ［招待講演］誘導自己組織化による極微細三次元配線形成技術 福島誉史・○マリアッパン ムルゲサン・小柳光正（東北大） SDM2018-92 |
将来の三次元積層型集積回路（3D-LSI）作製の鍵を握る極微細シリコン貫通配線（TSV）の形成とチップ間の微細電極の接続... [more] | SDM2018-92 pp.5-8 |
| SDM | 2019-02-07 13:10 |
東京 | 東京大学/本郷 工学部４号館 42講義室 | ［招待講演］Stress Investigation of Annular-Trench-Isolated (ATI) Through Silicon Via (TSV) ○Wei Feng・Naoya Watanabe・Haruo Shimamoto・Masahiro Aoyagi・Katsuya Kikuchi（AIST） SDM2018-93 |
[more] | SDM2018-93 pp.9-14 |
| SDM | 2019-02-07 13:50 |
東京 | 東京大学/本郷 工学部４号館 42講義室 | ［招待講演］めっき銅薄膜配線の機械特性とEM耐性の結晶粒界品質依存性 罗 轶凡・名越優太郎・水野涼太・鈴木 研・○三浦英生（東北大） SDM2018-94 |
[more] | SDM2018-94 pp.15-18 |
| SDM | 2019-02-07 14:30 |
東京 | 東京大学/本郷 工学部４号館 42講義室 | ［招待講演］p型GaN上に形成した単結晶Al配線およびそのGaN FETへの応用 ○原田剛史・宇高孝二・神田裕介・大西克彦（パナソニック セミコンダクターソリューションズ）・松永啓一・引田正洋・上本康裕（パナソニック） SDM2018-95 |
[more] | SDM2018-95 pp.19-22 |
| SDM | 2019-02-07 15:30 |
東京 | 東京大学/本郷 工学部４号館 42講義室 | ［招待講演］微細CMOS向け新コンタクト材料：クラスター気相合成法で形成したSiリッチWシリサイド膜 ○岡田直也・内田紀行・小川真一・金山敏彦（産総研） SDM2018-96 |
[more] | SDM2018-96 pp.23-26 |
| SDM | 2019-02-07 16:10 |
東京 | 東京大学/本郷 工学部４号館 42講義室 | ［招待講演］平滑なAuナノ薄膜を有する大気中にて常温接合可能な基板作製技術 ○松前貴司・山本道貴・倉島優一・日暮栄治・高木秀樹（産総研） SDM2018-97 |
平滑なAuナノ薄膜同士は大気中・室温でも直接接合できる。大気中・常温での放熱基板の直接接合のため、平滑なAuナノ薄膜を表... [more] | SDM2018-97 pp.27-30 |
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