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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| OPE (共催) OFT, OCS (併催) [詳細] |
2022-02-24 15:05 |
ONLINE | オンライン開催 | ［招待講演］シリカガラスの高温高圧処理による低損失化 ～ シリカガラスの構造中の空隙制御 ～ ○小野円佳（北大）  OCS2021-41 OPE2021-52 |
シリカガラス（SiO2）は通信用光ファイバのコア材料として広く用いられる.ファイバの光損失は,通信波長帯において0.2d... [more] | OCS2021-41 OPE2021-52 pp.1-4(OCS), pp.17-20(OPE) |
| SDM | 2014-02-28 11:00 |
東京 | 機械振興会館 | ［招待講演］三次元積層向けウェハの裏面研削によるダメージ評価 ○水島賢子（富士通研/東工大）・金 永ソク（東工大/ディスコ）・中村友二（富士通研）・杉江隆一・橋本秀樹（東レリサーチセンター）・上殿明良（筑波大）・大場隆之（東工大） SDM2013-167 |
10 um以下まで薄化したウェハを用いたバンプレスの積層技術を開発している。極薄膜のデバイスを積層するには、裏面研削がS... [more] | SDM2013-167 pp.13-18 |
| SDM | 2010-02-05 15:45 |
東京 | 機械振興会館 | 低速陽電子ビームを用いたCu/Low-k配線構造中の欠陥検出 ○上殿明良（筑波大）・井上尚也・林 喜宏・江口和弘・中村友二・廣瀬幸範・吉丸正樹（半導体理工学研究センター）・大島永康・大平俊行・鈴木良一（産総研） SDM2009-190 |
陽電子消滅は結晶中の点欠陥やポーラス材料の空隙を非破壊で感度良く検出することができる手法である．陽電子が電子と対消滅する... [more] | SDM2009-190 pp.49-52 |
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