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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| SDM | 2011-02-07 15:25 |
東京 | 機械振興会館 | 3次元積層技術における低温バンプレスTSVプロセス ○北田秀樹・前田展秀（東大）・藤本興治（大日本印刷）・水島賢子・中田義弘・中村友二（富士通研）・大場隆之（東大）  SDM2010-224 |
低温プラズマCVDを用いたCu貫通ビア(TSV)製造のCu拡散の挙動を評価した。成膜温度が150℃の低温-PECVD法で... [more] | SDM2010-224 pp.49-53 |
| ED, MW (共催) |
2008-01-16 13:50 |
東京 | 機械振興会館 | 熱CVD成長SiN表面保護膜のAlGaN/GaN HEMT電気特性への影響 ○丸井俊治・星 真一・森野芳昭・伊藤正紀・玉井 功・戸田典彦・大来英之・佐野芳明・関 昇平（OKI） ED2007-208 MW2007-139 |
AlGaN/GaN HEMTにおけるAlGaN表面準位に起因した電流コラプスの抑制手段として、熱CVD成長SiN膜を表面... [more] | ED2007-208 MW2007-139 pp.11-15 |
| SDM, ED, CPM (共催) |
2007-05-25 14:30 |
静岡 | 静岡大学 浜松キャンパス | SiC薄膜成長と水素添加熱分解によるカーボンナノ構造 ○小川泰弘・橋本佳孝・中村篤志・田中 昭・天明二郎（静岡大） |
アモルファスSiC薄膜の熱分解によるカーボンナノ構造形成を行なった。アモルファスSiC薄膜はヘキサメチルジシラン(HMD... [more] | |
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