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すべての研究会開催スケジュール (検索条件: すべての年度)
| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| SIP, SP, EA (共催) IPSJ-SLP (連催) [詳細] |
2024-03-01 09:30 |
沖縄 | 沖縄産業支援センター （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
話者性を制御可能な音声合成のための話者埋め込み空間に関する実験的検討 ○森田湧大・齋藤大輔・峯松信明（東大）  EA2023-93 SIP2023-140 SP2023-75 |
本論文では，弁別能力の異なる話者埋め込み抽出モデルを用いた，話者性の制御が可能な音声合成モデルの比較実験について報告する... [more] | EA2023-93 SIP2023-140 SP2023-75 pp.190-195 |
| US | 2023-10-18 13:30 |
宮城 | 東北大学 + オンライン開催 （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
3パルス法のイメージングパルス間でのHIFUパルス挿入が気泡イメージングに与える影響 ○吉田奈央・久慈祥太（東北大）・吉澤 晋（東北大/ソニア・セラピューティクス） US2023-37 |
強力集束超音波（HIFU）治療は体外から超音波を集束させてがんを治療する方法であり，その効率はキャビテーション気泡により... [more] | US2023-37 pp.1-4 |
| WIT, SP (共催) IPSJ-SLP (連催) [詳細] |
2023-10-14 16:15 |
福岡 | 九州工業大学（戸畑キャンパス） （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
知覚的話者間類似度との関連に着目した話者埋め込み空間の構成法の比較検討 ○森田湧大・齋藤大輔・峯松信明（東大） SP2023-31 WIT2023-22 |
本研究では、話者埋め込み特徴量に基づく話者間類似度と主観評価実験に基づく知覚的話者間類似度との対応関係について、複数の話... [more] | SP2023-31 WIT2023-22 pp.21-26 |
| OME | 2023-03-16 13:00 |
ONLINE | オンライン開催 | ［招待講演］三重項励起子を利用した有機光デバイスの高性能化 ○合志憲一（九大） OME2022-81 |
機光エレクトロニクスは無機半導体の代替および補完技術として大きな注目を集めている。代表的なデバイスの1つである有機発光ダ... [more] | OME2022-81 pp.1-6 |
| PRMU | 2020-09-02 15:30 |
ONLINE | オンライン開催 | 畳み込みニューラルネットワークを用いたカメラモデル分類におけるJPEG圧縮の影響の評価及び解析 ○内田麻衣・富岡洋一（会津大） PRMU2020-13 |
違法アップロードや盗撮などの犯罪を防ぐために，カメラのパターンノイズを用いてディジタル画像を撮影したカメラを特定する手法... [more] | PRMU2020-13 pp.35-40 |
| EMD, CPM, OME (共催) |
2007-06-29 14:05 |
東京 | 機械振興会館 | 二段階吸収型ホログラフィック記録材料 ○森 裕平・神原浩久・平林克彦（NTT）・栗原 隆（NTT/京大）・清水正毅・檜山爲次郎（京大） EMD2007-12 CPM2007-30 OME2007-16 |
二段階吸収材料にオリゴチオフェン、エネルギ受容体に芳香族アジドを、そして分散媒体に各種ポリマーを選んで二段階吸収型のホロ... [more] | EMD2007-12 CPM2007-30 OME2007-16 pp.1-6 |
| EMD, CPM, LQE, OPE (共催) |
2006-08-25 11:35 |
北海道 | 千歳アルカディア・プラザ | オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体Ⅱ ○森 裕平・神原浩久・平林克彦（NTT）・栗原 隆（NTT/京大）・安達昌文・佐々木 豊・前田修一（三菱化学）・清水正毅・檜山爲次郎（京大） |
オリゴチオフェンと芳香族アジドDZDSを利用した、二段階吸収型のホログラムメモリ用材料を提案し、それぞれの分子の励起状態... [more] | EMD2006-40 CPM2006-70 OPE2006-82 LQE2006-47 pp.81-86 |
| CPM, EMD, OME (共催) |
2006-06-30 14:00 |
東京 | 機械振興会館 | オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体 ○森 裕平・神原浩久・平林克彦（NTT）・栗原 隆（NTT/京大）・安達昌文・佐々木 豊・前田修一（三菱化学）・清水正毅・檜山為次郎（京大） |
三次元多層光メモリの実現を目的として、二段階の光吸収によるメモリ材料について調べた。二段階光吸収材料としてオリゴチオフェ... [more] | EMD2006-9 CPM2006-33 OME2006-43 pp.23-27 |
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