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講演抄録/キーワード
講演名 2007-11-16 14:20
第三電極を有するRFマグネトロンスパッタ法によるZnO透明導電膜特性の均一性評価
朝野 章長岡技科大)・片桐裕則長岡高専)・黒木雄一郎安井寛治高田雅介赤羽正志長岡技科大CPM2007-108 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2007-108
抄録 (和) 我々は第三電極を有するrfマグネトロンスパッタ法により作製したAlドープ酸化亜鉛について研究をしてきた。マグネトロンスパッタ法では、ターゲットのエロージョン部からの高エネルギー荷電粒子の入射により基板面内の膜の不均一化が生じるという問題がある。そこで、プラズマダメージを抑える適切な負バイアスを第三電極に印加することにより結晶性の改善を達成した。また抵抗率、キャリヤ密度およびホール移動度のような電気的特性の均質性も改善された。第三電極を挿入し、適切な負バイアスを印加することで、抵抗率のばらつきを20%以下に抑制できることがわかった。 
(英) We have investigated the deposition of Al doped ZnO (AZO) films using a radio frequency (rf) magnetron sputtering apparatus with a mesh grid electrode. The improvement of the uniformity of crystallinity was achieved by the effect of the appropriate negative grid biases that suppress the impingement of charged particles onto the films surface. The uniformity of the electronic properties such as resistivity, carrier concentration and Hall mobility was also improved. These results that the distribution in the film resistivity with a mesh grid was reduced to 20% that of the AZO films deposited without the mesh grid.
キーワード (和) ZnO:Al / 透明導電膜 / スパッタ法 / / / / /  
(英) ZnO:Al / Transparent conducting oxide / sputtering / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 107, no. 325, CPM2007-108, pp. 19-22, 2007年11月.
資料番号 CPM2007-108 
発行日 2007-11-09 (CPM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード CPM2007-108 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2007-108

研究会情報
研究会 CPM  
開催期間 2007-11-16 - 2007-11-17 
開催地(和) 長岡技術科学大学 
開催地(英) Nagaoka University of Technology 
テーマ(和) 薄膜プロセス・材料、一般 
テーマ(英) Process of Thin Film formation and Materials, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2007-11-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 第三電極を有するRFマグネトロンスパッタ法によるZnO透明導電膜特性の均一性評価 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Evaluation of the uniformity in the properties of ZnO transparent conductive films grown by rf magnetron sputtering with a grid electrode 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) ZnO:Al / ZnO:Al  
キーワード(2)(和/英) 透明導電膜 / Transparent conducting oxide  
キーワード(3)(和/英) スパッタ法 / sputtering  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 朝野 章 / Akira Asano / アサノ アキラ
第1著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学 (略称: 長岡技科大)
Nagaoka University of Technology (略称: NUT)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 片桐 裕則 / Hironori Katagiri / カタギリ ヒロノリ
第2著者 所属(和/英) 長岡工業高等専門学校 (略称: 長岡高専)
Nagaoka National College of Techonlogy (略称: NNCT)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 黒木 雄一郎 / Yuichiro Kuroki / クロキ ユウイチロウ
第3著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学 (略称: 長岡技科大)
Nagaoka University of Technology (略称: NUT)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 安井 寛治 / Kanji Yasui / ヤスイ カンジ
第4著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学 (略称: 長岡技科大)
Nagaoka University of Technology (略称: NUT)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 高田 雅介 / Masasuke Takata / タカタ マサスケ
第5著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学 (略称: 長岡技科大)
Nagaoka University of Technology (略称: NUT)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 赤羽 正志 / Tadashi Akahane / アカハネ タダシ
第6著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学 (略称: 長岡技科大)
Nagaoka University of Technology (略称: NUT)
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講演者 第1著者 
発表日時 2007-11-16 14:20:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 CPM2007-108 
巻番号(vol) vol.107 
号番号(no) no.325 
ページ範囲 pp.19-22 
ページ数
発行日 2007-11-09 (CPM) 


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