講演抄録/キーワード |
講演名 |
2007-11-16 14:20
第三電極を有するRFマグネトロンスパッタ法によるZnO透明導電膜特性の均一性評価 ○朝野 章(長岡技科大)・片桐裕則(長岡高専)・黒木雄一郎・安井寛治・高田雅介・赤羽正志(長岡技科大) CPM2007-108 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2007-108 |
抄録 |
(和) |
我々は第三電極を有するrfマグネトロンスパッタ法により作製したAlドープ酸化亜鉛について研究をしてきた。マグネトロンスパッタ法では、ターゲットのエロージョン部からの高エネルギー荷電粒子の入射により基板面内の膜の不均一化が生じるという問題がある。そこで、プラズマダメージを抑える適切な負バイアスを第三電極に印加することにより結晶性の改善を達成した。また抵抗率、キャリヤ密度およびホール移動度のような電気的特性の均質性も改善された。第三電極を挿入し、適切な負バイアスを印加することで、抵抗率のばらつきを20%以下に抑制できることがわかった。 |
(英) |
We have investigated the deposition of Al doped ZnO (AZO) films using a radio frequency (rf) magnetron sputtering apparatus with a mesh grid electrode. The improvement of the uniformity of crystallinity was achieved by the effect of the appropriate negative grid biases that suppress the impingement of charged particles onto the films surface. The uniformity of the electronic properties such as resistivity, carrier concentration and Hall mobility was also improved. These results that the distribution in the film resistivity with a mesh grid was reduced to 20% that of the AZO films deposited without the mesh grid. |
キーワード |
(和) |
ZnO:Al / 透明導電膜 / スパッタ法 / / / / / |
(英) |
ZnO:Al / Transparent conducting oxide / sputtering / / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 107, no. 325, CPM2007-108, pp. 19-22, 2007年11月. |
資料番号 |
CPM2007-108 |
発行日 |
2007-11-09 (CPM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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