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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2007-12-14 15:10 シリコン太陽電池用SiNxパッシベーション膜におけるNH3プラズマ界面改質効果 ○岸山友紀・高橋 優・大鐘章義・Athapol Kitiyanan・浦岡行治・冬木 隆（奈良先端大）  SDM2007-232 |
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| 抄録 | （和） | Si太陽電池の高効率化に際し、高品質な表面パッシベーション技術の開発とその評価は必要不可欠なものとなっている。本研究では、Si表面にNH3プラズマ処理を施し、その後プラズマCVDを用いてSiNx膜を堆積させパッシベーションを行った。その結果、NH3プラズマ処理を施していないものに比べて、大幅な実効キャリアライフタイムの改善が見られた。堆積後、さらにアニール処理を行いパッシベーション膜がどの程度の熱に耐えられるのかを調べた。また、NH3プラズマ処理を用いて太陽電池作製プロセスの低温化について検討した。 |
| （英） | The effect of NH3 plasma treatment on p-type (Fz) Si substrates was investigated relating with the post annealing process. NH3 plasma treatment before the low temperature deposition of silicon nitride (SiNx) by plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) was found to be effective to improve the surface passivation. The effective lifetime with NH3 plasma-treatment exceeded the effective lifetime without the NH3 treatment. For fire through process and the new process, like laser fired contacts (LFC), thermal resistance of passivation processes investigated. In the result of NH3 plasma-treatment, outstanding surface passivation for high efficiency thin silicon solar cells was obtained using SiN films deposited at low temperatures. | |
| キーワード | （和） | 太陽電池 / SiNx / パッシベーション / NH3プラズマ処理 / / / / |
| （英） | Solar cell / SiNx / Passivation / NH3 plasma treatment / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 107, no. 388, SDM2007-232, pp. 43-46, 2007年12月. | |
| 資料番号 | SDM2007-232 | |
| 発行日 | 2007-12-07 (SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | SDM2007-232 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
| 開催期間 | 2007-12-14 - 2007-12-14 |
| 開催地（和） | 奈良先端科学技術大学院大学 |
| 開催地（英） | Nara Institute Science and Technology |
| テーマ（和） | シリコン関連材料の作製と評価 |
| テーマ（英） | Silicon related material, process and device |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2007-12-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | シリコン太陽電池用SiNxパッシベーション膜におけるNH3プラズマ界面改質効果 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Interface modification by NH3 plasma in SiNx passivation for solar cell |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 太陽電池 / Solar cell |
| キーワード(2)（和/英） | SiNx / SiNx |
| キーワード(3)（和/英） | パッシベーション / Passivation |
| キーワード(4)（和/英） | NH3プラズマ処理 / NH3 plasma treatment |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岸山 友紀 / Yuki Kishiyama / キシヤマ ユキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 奈良先端科学技術大学院大学 (略称： 奈良先端大) Nara Institute of Science and Technology (略称： NAIST) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 高橋 優 / Yu Takahashi / タカハシ ユウ |
| 第2著者 所属（和/英） | 奈良先端科学技術大学院大学 (略称： 奈良先端大) Nara Institute of Science and Technology (略称： NAIST) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 大鐘 章義 / Akiyoshi Ogane / オオガネ アキヨシ |
| 第3著者 所属（和/英） | 奈良先端科学技術大学院大学 (略称： 奈良先端大) Nara Institute of Science and Technology (略称： NAIST) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | Athapol Kitiyanan / Athapol Kitiyanan / Athapol Kitiyanan |
| 第4著者 所属（和/英） | 奈良先端科学技術大学院大学 (略称： 奈良先端大) Nara Institute of Science and Technology (略称： NAIST) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 浦岡 行治 / Yukiharu Uraoka / ウラオカ ユキハル |
| 第5著者 所属（和/英） | 奈良先端科学技術大学院大学 (略称： 奈良先端大) Nara Institute of Science and Technology (略称： NAIST) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 冬木 隆 / Takashi Fuyuki / フユキ タカシ |
| 第6著者 所属（和/英） | 奈良先端科学技術大学院大学 (略称： 奈良先端大) Nara Institute of Science and Technology (略称： NAIST) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2007-12-14 15:10:00 |
| 発表時間 | 20分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2007-232 |
| 巻番号（vol） | vol.107 |
| 号番号（no） | no.388 |
| ページ範囲 | pp.43-46 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2007-12-07 (SDM) |
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