| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 講演論文 詳細 |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
| トップに戻る | 前のページに戻る | [Japanese] / [English] |
| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2008-05-15 15:15 RFマグネトロンスパッタリング法によるTiO2薄膜の生成 ○遠藤立弥・水地裕一・以西雅章（静岡大）  ED2008-6 CPM2008-14 SDM2008-26 |
|
| 抄録 | （和） | TiO2薄膜は、近紫外光の照射により、有機物分解特性や親水特性を示すことから、光触媒材料として注目されている。近年、可視光応答化の研究が盛んに行われており、今後様々な基材に担持されることが予想される。しかし、既存の生成方法の多くは熱処理を必要としたり、付着力が弱いという問題がある。本研究では、RFマグネトロンスパッタリング法により、光触媒特性を有するTiO2薄膜を非加熱基板上に生成することを目的とした。ターゲットにはTiO2粉末を使用し、雰囲気ガスはArのみとした。基板加熱の有無による結晶構造の変化や、表面形態の変化の観察を行った結果、非加熱基板上にアナターゼ型TiO2薄膜が生成できることを確認できた。 |
| （英） | TiO2 films have been focused as a photocatalyst. They have remarkable properties, for example, to resolute organic pollutant and to give hydrophobicity by irradiating near-ultra-violet-light. In the conventional preparation processes, a heating process should be used to improve their crystallinity and films are easily peeled from substrates. This research is aimed to prepare TiO2 films on slide-glass substrates at room temperature by using magnetron sputtering method. TiO2 powder was used as a target material. Ar gas was used as a sputtering atmosphere. Variations of crystal properties and morphology were investigated as a function of substrate temperature. It was found that Anatase-type films could be prepared at room temperature. | |
| キーワード | （和） | TiO2薄膜 / RFマグネトロンスパッタリング / 光触媒 / 低温生成 / / / / |
| （英） | TiO2 thin film / RF magnetron sputtering / photocatalyst / low temperature preparation / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 108, no. 35, CPM2008-14, pp. 23-28, 2008年5月. | |
| 資料番号 | CPM2008-14 | |
| 発行日 | 2008-05-08 (ED, CPM, SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | ED2008-6 CPM2008-14 SDM2008-26 |
|
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM ED SDM |
| 開催期間 | 2008-05-15 - 2008-05-16 |
| 開催地（和） | 名古屋工業大学 |
| 開催地（英） | Nagoya Institute of Technology |
| テーマ（和） | 結晶成長、評価及びデバイス（化合物、Si、SiGe、電子・光材料） |
| テーマ（英） | Crystal growth, evaluation and device (Compound, Si, SiGe, Electronic and light emitting materials） |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2008-05-CPM-ED-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | RFマグネトロンスパッタリング法によるTiO2薄膜の生成 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Preparation of TiO2 films by RF magnetron sputtering method |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | TiO2薄膜 / TiO2 thin film |
| キーワード(2)（和/英） | RFマグネトロンスパッタリング / RF magnetron sputtering |
| キーワード(3)（和/英） | 光触媒 / photocatalyst |
| キーワード(4)（和/英） | 低温生成 / low temperature preparation |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 遠藤 立弥 / Tatsuya Endo / エンドウ タツヤ |
| 第1著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 水地 裕一 / Yuichi Mizuchi / ミズチ ユウイチ |
| 第2著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 以西 雅章 / Masaaki Isai / イサイ マサアキ |
| 第3著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2008-05-15 15:15:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | ED2008-6, CPM2008-14, SDM2008-26 |
| 巻番号（vol） | vol.108 |
| 号番号（no） | no.34(ED), no.35(CPM), no.36(SDM) |
| ページ範囲 | pp.23-28 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2008-05-08 (ED, CPM, SDM) |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]