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講演抄録/キーワード
講演名 2008-05-15 13:00
RFマグネトロンスパッタリング法によるLiMn2O4薄膜生成へのドーナツ円板の効果
細川貴之中村功一細江俊介酒井 里以西雅章静岡大ED2008-1 CPM2008-9 SDM2008-21 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2008-1 CPM2008-9 SDM2008-21
抄録 (和) RFマグネトロンスパッタリング法により、Li二次電池正極用のLiMn2O4薄膜を生成している。ターゲットには、LiMn2O4粉末を用い、連続して複数回のスパッタを行った。本研究は、反応性スパッタリング中での、ターゲット物質の酸化を防止する方法として考案された。具体的には、ターゲットと基板間にドーナツ状の円板を設置して、結晶特性への効果を調べた。蒸着速度、XRD測定、表面観察を行った結果、現在までの研究で、ターゲットの酸化抑制効果は高くないことが分かった。しかし、蒸着速度の向上に効果があることが分かった。 
(英) The LiMn2O4 films for Li secondary batteries have been prepared by a RF magnetron sputtering method. The LiMn2O4 powder was used as a target material. This research was designed for preventing the target material being oxidized during the reactive sputtering. A doughnut plate was inserted between substrate and target. The deposition rate, XRD, and surface morphology were investigated as a function of doughnut-aperture size. It was found that the deposition rate had a maximum value under the doughnut-aperture of 30mm. It was also found that the plate was effective to inhibit oxidation of target material.
キーワード (和) LiMn2O4薄膜 / RFマグネトロンスパッタリング / Li二次電池 / / / / /  
(英) LiMn2O4 thin film / RF magnetron sputtering / Li secondary batteries / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 108, no. 35, CPM2008-9, pp. 1-6, 2008年5月.
資料番号 CPM2008-9 
発行日 2008-05-08 (ED, CPM, SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード ED2008-1 CPM2008-9 SDM2008-21 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2008-1 CPM2008-9 SDM2008-21

研究会情報
研究会 CPM ED SDM  
開催期間 2008-05-15 - 2008-05-16 
開催地(和) 名古屋工業大学 
開催地(英) Nagoya Institute of Technology 
テーマ(和) 結晶成長、評価及びデバイス(化合物、Si、SiGe、電子・光材料) 
テーマ(英) Crystal growth, evaluation and device (Compound, Si, SiGe, Electronic and light emitting materials) 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2008-05-CPM-ED-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) RFマグネトロンスパッタリング法によるLiMn2O4薄膜生成へのドーナツ円板の効果 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Effect of doughnut-type plate on crystal properties of LiMn2O4 films prepared by RF magnetron sputtering 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) LiMn2O4薄膜 / LiMn2O4 thin film  
キーワード(2)(和/英) RFマグネトロンスパッタリング / RF magnetron sputtering  
キーワード(3)(和/英) Li二次電池 / Li secondary batteries  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 細川 貴之 / Takayuki Hosokawa / ホソカワ タカユキ
第1著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 中村 功一 / Kouichi Nakamura / ナカムラ コウイチ
第2著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 細江 俊介 / Shunsuke Hosoe / ホソエ シュンスケ
第3著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 酒井 里 / Satoshi Sakai / サカイ サトシ
第4著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 以西 雅章 / Masaaki Isai / イサイ マサアキ
第5著者 所属(和/英) 静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2008-05-15 13:00:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 ED2008-1, CPM2008-9, SDM2008-21 
巻番号(vol) vol.108 
号番号(no) no.34(ED), no.35(CPM), no.36(SDM) 
ページ範囲 pp.1-6 
ページ数
発行日 2008-05-08 (ED, CPM, SDM) 


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