講演抄録/キーワード |
講演名 |
2008-05-15 13:00
RFマグネトロンスパッタリング法によるLiMn2O4薄膜生成へのドーナツ円板の効果 ○細川貴之・中村功一・細江俊介・酒井 里・以西雅章(静岡大) ED2008-1 CPM2008-9 SDM2008-21 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2008-1 CPM2008-9 SDM2008-21 |
抄録 |
(和) |
RFマグネトロンスパッタリング法により、Li二次電池正極用のLiMn2O4薄膜を生成している。ターゲットには、LiMn2O4粉末を用い、連続して複数回のスパッタを行った。本研究は、反応性スパッタリング中での、ターゲット物質の酸化を防止する方法として考案された。具体的には、ターゲットと基板間にドーナツ状の円板を設置して、結晶特性への効果を調べた。蒸着速度、XRD測定、表面観察を行った結果、現在までの研究で、ターゲットの酸化抑制効果は高くないことが分かった。しかし、蒸着速度の向上に効果があることが分かった。 |
(英) |
The LiMn2O4 films for Li secondary batteries have been prepared by a RF magnetron sputtering method. The LiMn2O4 powder was used as a target material. This research was designed for preventing the target material being oxidized during the reactive sputtering. A doughnut plate was inserted between substrate and target. The deposition rate, XRD, and surface morphology were investigated as a function of doughnut-aperture size. It was found that the deposition rate had a maximum value under the doughnut-aperture of 30mm. It was also found that the plate was effective to inhibit oxidation of target material. |
キーワード |
(和) |
LiMn2O4薄膜 / RFマグネトロンスパッタリング / Li二次電池 / / / / / |
(英) |
LiMn2O4 thin film / RF magnetron sputtering / Li secondary batteries / / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 108, no. 35, CPM2008-9, pp. 1-6, 2008年5月. |
資料番号 |
CPM2008-9 |
発行日 |
2008-05-08 (ED, CPM, SDM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
ED2008-1 CPM2008-9 SDM2008-21 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2008-1 CPM2008-9 SDM2008-21 |
研究会情報 |
研究会 |
CPM ED SDM |
開催期間 |
2008-05-15 - 2008-05-16 |
開催地(和) |
名古屋工業大学 |
開催地(英) |
Nagoya Institute of Technology |
テーマ(和) |
結晶成長、評価及びデバイス(化合物、Si、SiGe、電子・光材料) |
テーマ(英) |
Crystal growth, evaluation and device (Compound, Si, SiGe, Electronic and light emitting materials) |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
CPM |
会議コード |
2008-05-CPM-ED-SDM |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
RFマグネトロンスパッタリング法によるLiMn2O4薄膜生成へのドーナツ円板の効果 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Effect of doughnut-type plate on crystal properties of LiMn2O4 films prepared by RF magnetron sputtering |
サブタイトル(英) |
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キーワード(1)(和/英) |
LiMn2O4薄膜 / LiMn2O4 thin film |
キーワード(2)(和/英) |
RFマグネトロンスパッタリング / RF magnetron sputtering |
キーワード(3)(和/英) |
Li二次電池 / Li secondary batteries |
キーワード(4)(和/英) |
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キーワード(5)(和/英) |
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キーワード(6)(和/英) |
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キーワード(7)(和/英) |
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キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
細川 貴之 / Takayuki Hosokawa / ホソカワ タカユキ |
第1著者 所属(和/英) |
静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
中村 功一 / Kouichi Nakamura / ナカムラ コウイチ |
第2著者 所属(和/英) |
静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
細江 俊介 / Shunsuke Hosoe / ホソエ シュンスケ |
第3著者 所属(和/英) |
静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
酒井 里 / Satoshi Sakai / サカイ サトシ |
第4著者 所属(和/英) |
静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
以西 雅章 / Masaaki Isai / イサイ マサアキ |
第5著者 所属(和/英) |
静岡大学 (略称: 静岡大)
Shizuoka University (略称: Shizuoka Univ.) |
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2008-05-15 13:00:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
CPM |
資料番号 |
ED2008-1, CPM2008-9, SDM2008-21 |
巻番号(vol) |
vol.108 |
号番号(no) |
no.34(ED), no.35(CPM), no.36(SDM) |
ページ範囲 |
pp.1-6 |
ページ数 |
6 |
発行日 |
2008-05-08 (ED, CPM, SDM) |