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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2008-05-15 14:50 RFマグネトロンスパッタリング法によるβ-Ga2O3薄膜の生成 ○堀内郁志・以西雅章（静岡大）  ED2008-5 CPM2008-13 SDM2008-25 |
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| 抄録 | （和） | 近年環境問題に対する関心は年々高まってきている。そのため排気ガスの制御に利用される高温用酸素ガスセンサとして酸化ガリウムが注目されている。そこで本研究ではβ-Ga2O3薄膜をスパッタリング法で生成し、熱処理による結晶特性への影響、薄膜生成時のO2ガス流量が与える結晶特性への影響について調べた。その結果、生成した薄膜は熱処理を行なうことで結晶特性が向上することがわかった。また、アルゴンと酸素の流量比が総流量2.4sccmにおいてAr:O2=5:1のときに最もよい結晶特性の薄膜が得られた。 |
| （英） | Interest for environmental problems has been growing these days. Gallium oxide have been focused as an oxygen (O2) gas sensor which is used for controlling exhausted gases at high temperature. These films were deposited by a RF magnetron sputtering. The effects of annealing process and O2 gas flow rate on crystallinity were investigated. As a result, it was found that the crystallinity was improved after annealing process. It was also found that high quality films could be prepared under the Ar:O2 flow rate of 5:1 at the total gas pressure of 2.4sccm. | |
| キーワード | （和） | 酸化ガリウム / 金属酸化物 / マグネトロンスパッタリング法 / 急速アニール / 酸素センサ / / / |
| （英） | Gallium oxide / Metal oxides / Magnetron sputtering method / Rapid thermal annealing(RTA) / Oxygen sensor / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 108, no. 35, CPM2008-13, pp. 19-22, 2008年5月. | |
| 資料番号 | CPM2008-13 | |
| 発行日 | 2008-05-08 (ED, CPM, SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | ED2008-5 CPM2008-13 SDM2008-25 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM ED SDM |
| 開催期間 | 2008-05-15 - 2008-05-16 |
| 開催地（和） | 名古屋工業大学 |
| 開催地（英） | Nagoya Institute of Technology |
| テーマ（和） | 結晶成長、評価及びデバイス（化合物、Si、SiGe、電子・光材料） |
| テーマ（英） | Crystal growth, evaluation and device (Compound, Si, SiGe, Electronic and light emitting materials） |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2008-05-CPM-ED-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | RFマグネトロンスパッタリング法によるβ-Ga2O3薄膜の生成 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Preparation of β-Ga2O3 films by RF magnetron sputtering method |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 酸化ガリウム / Gallium oxide |
| キーワード(2)（和/英） | 金属酸化物 / Metal oxides |
| キーワード(3)（和/英） | マグネトロンスパッタリング法 / Magnetron sputtering method |
| キーワード(4)（和/英） | 急速アニール / Rapid thermal annealing(RTA) |
| キーワード(5)（和/英） | 酸素センサ / Oxygen sensor |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 堀内 郁志 / Takashi Horiuchi / ホリウチ タカシ |
| 第1著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 以西 雅章 / Masaaki Isai / イサイ マサアキ |
| 第2著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2008-05-15 14:50:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | ED2008-5, CPM2008-13, SDM2008-25 |
| 巻番号（vol） | vol.108 |
| 号番号（no） | no.34(ED), no.35(CPM), no.36(SDM) |
| ページ範囲 | pp.19-22 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2008-05-08 (ED, CPM, SDM) |
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