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講演抄録/キーワード
講演名 2009-05-14 15:50
A proposal for Highly Transparent Chalcogenide Alloys for Thin-Film-Solar-Cell Applications
Asraf M. Abdel HaleemMasaya IchimuraNagoya Inst. of Tech.ED2009-23 CPM2009-13 SDM2009-13
抄録 (和) Gallium-Indium-sulfide-oxide thin films were deposited onto F-doped SnO2-coated glass by electrochemical deposition from an aqueous bath. The films were deposited at three different ratios of gallium to indium in the precursor bath; namely [Ga/In]=2/8, 5/5 and 8/2. The impact of the gallium content on the composition, optical transmission, structure, photosensitivity and morphology of the deposited films was investigated. The films deposited at [Ga/In]= 5/5 and 8/2 had energy gap as high as 3.5 eV. The X-ray diffraction spectrum of the film deposited at [Ga/In]=2/8 contained weak peaks of indium metal, but the In peaks were absent in the spectra of the films deposited at [Ga/In]=5/5 and 8/2. The photosensitivity of the film was observed by means of photoelectrochemical measurements, which confirmed that all the films showed n-type conduction. 
(英) Gallium-Indium-sulfide-oxide thin films were deposited onto F-doped SnO2-coated glass by electrochemical deposition from an aqueous bath. The films were deposited at three different ratios of gallium to indium in the precursor bath; namely [Ga/In]=2/8, 5/5 and 8/2. The impact of the gallium content on the composition, optical transmission, structure, photosensitivity and morphology of the deposited films was investigated. The films deposited at [Ga/In]= 5/5 and 8/2 had energy gap as high as 3.5 eV. The X-ray diffraction spectrum of the film deposited at [Ga/In]=2/8 contained weak peaks of indium metal, but the In peaks were absent in the spectra of the films deposited at [Ga/In]=5/5 and 8/2. The photosensitivity of the film was observed by means of photoelectrochemical measurements, which confirmed that all the films showed n-type conduction.
キーワード (和) 硫化ガリウムインジウム / 薄膜 / 電気化学堆積 / 太陽電池 / バッファー層 / / /  
(英) gallium indium sulfide / thin films / electrochemical deposition / solar cell / buffer layer / / /  
文献情報 信学技報, vol. 109, no. 24, CPM2009-13, pp. 25-30, 2009年5月.
資料番号 CPM2009-13 
発行日 2009-05-07 (ED, CPM, SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
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PDFダウンロード ED2009-23 CPM2009-13 SDM2009-13

研究会情報
研究会 ED CPM SDM  
開催期間 2009-05-14 - 2009-05-15 
開催地(和) 豊橋技科大サテライトオフィス 
開催地(英) Satellite Office, Toyohashi Univ. of Technology 
テーマ(和) 結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料) 
テーマ(英) Crystal growth, evaluation and device (Compound, Si, SiGe, Electronic and light emitting materials) 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2009-05-ED-CPM-SDM 
本文の言語 英語 
タイトル(和)  
サブタイトル(和)  
タイトル(英) A proposal for Highly Transparent Chalcogenide Alloys for Thin-Film-Solar-Cell Applications 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 硫化ガリウムインジウム / gallium indium sulfide  
キーワード(2)(和/英) 薄膜 / thin films  
キーワード(3)(和/英) 電気化学堆積 / electrochemical deposition  
キーワード(4)(和/英) 太陽電池 / solar cell  
キーワード(5)(和/英) バッファー層 / buffer layer  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) Asraf M. Abdel Haleem / Asraf M. Abdel Haleem /
第1著者 所属(和/英) 名古屋工業大学 (略称: 名工大)
Nagoya Institute of Technology (略称: Nagoya Inst. of Tech.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 市村 正也 / Masaya Ichimura / イチムラ マサヤ
第2著者 所属(和/英) 名古屋工業大学 (略称: 名工大)
Nagoya Institute of Technology (略称: Nagoya Inst. of Tech.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2009-05-14 15:50:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 ED2009-23, CPM2009-13, SDM2009-13 
巻番号(vol) vol.109 
号番号(no) no.23(ED), no.24(CPM), no.25(SDM) 
ページ範囲 pp.25-30 
ページ数
発行日 2009-05-07 (ED, CPM, SDM) 


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