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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2011-08-11 09:25 RFマグネトロンスパッタ法によるAZO透明導電膜の作製 ○梅原 猛・野毛 悟（沼津高専）  CPM2011-67 |
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| 抄録 | （和） | RFマグネトロンスパッタ法によるAZO薄膜の成膜条件に関する検討結果について報告する．放電ガスAr中に反応性ガス$O_2$を混入させた反応性スパッタリングを用い，メタルターゲットZnの上にAlペレットを配置し，酸素濃度割合，Alドーピング量，成膜温度を変化させた．抵抗率，透過率，結晶配向性を評価し，各種成膜条件における特性変化の原因について検討した．最適形成条件の探索の結果，酸素濃度割合12%，Alドーピング量4%，成膜温度350℃にすることにより，最小抵抗率4.38×$10^{-4}$$\Omega$cmが得られ，可視光平均透過率は93%が得られた． |
| （英） | In this study, the results of the study of thin film deposition conditions of AZO thin film by RF magnetron sputtering method were reported. AZO thin films have been prepared by RF reactive magnetron sputtering with various growth parameters, including Al-doping amount on Zn target, oxygen pressure ratio and substrate temperatures. The resistivity, transmittance and crystal orientation of these films was investigated as a function of various growth parameters and causes of characteristic change were examined. As a result, a minimum resistivity of 4.38×$10^{-4}$$\Omega$cm and the average transmittance of 93% in the visible range was obtained for the films deposited at oxygen pressure ratio of 12%, Al-doping ratio of 4% and substrate temperature of 350℃. | |
| キーワード | （和） | AZO薄膜 / 透明導電膜 / RFマグネトロンスパッタ法 / / / / / |
| （英） | AZO thin film / Transparent Conductive Oxide / RF magnetron sputtering / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 111, no. 176, CPM2011-67, pp. 55-60, 2011年8月. | |
| 資料番号 | CPM2011-67 | |
| 発行日 | 2011-08-03 (CPM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | CPM2011-67 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
| 開催期間 | 2011-08-10 - 2011-08-11 |
| 開催地（和） | 弘前大学 文京町キャンパス |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | 電子部品・材料，一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2011-08-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | RFマグネトロンスパッタ法によるAZO透明導電膜の作製 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Preparation of Transparent Conducting AZO Thin Films by RF Magnetron Sputtering |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | AZO薄膜 / AZO thin film |
| キーワード(2)（和/英） | 透明導電膜 / Transparent Conductive Oxide |
| キーワード(3)（和/英） | RFマグネトロンスパッタ法 / RF magnetron sputtering |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 梅原 猛 / Takeshi Umehara / ウメハラ タケシ |
| 第1著者 所属（和/英） | 沼津工業高等専門学校 (略称： 沼津高専) Numazu National College of Technology (略称： Numazu NCT) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 野毛 悟 / Satoru Noge / |
| 第2著者 所属（和/英） | 沼津工業高等専門学校 (略称： 沼津高専) Numazu National College of Technology (略称： Numazu NCT) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2011-08-11 09:25:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | CPM2011-67 |
| 巻番号（vol） | vol.111 |
| 号番号（no） | no.176 |
| ページ範囲 | pp.55-60 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2011-08-03 (CPM) |
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