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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2011-10-26 13:50 RF-DC結合形スパッタ法による室温成膜AZO薄膜の特性 ○樫出 淳・名越克仁・富口祐輔・清水英彦・岩野春男・川上貴浩・永田向太郎・福嶋康夫・坪井 望・野本隆宏（新潟大）  CPM2011-111 エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2011-111 |
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| 抄録 | （和） | 本研究では，低電圧でのスパッタが可能なRF-DC結合形スパッタ法（低電圧スパッタ法）に注目し，この方法により室温にてAZO薄膜を作製し，検討を行った。その結果，低電圧スパッタ法にて作製した薄膜の結晶性及び電気特性は，通常のDCマグネトロンスパッタ法に比べ，基板位置による変化が少なかった。これらのことから，膜面内方向における特性の変化を抑制する方法として低電圧スパッタ法は有効であると考えられた。 |
| （英） | In order to examine that influence of low voltage sputtering method on properties of AZO thin films, deposition of AZO thin films was attempted at the room temperature by the RF-DC coupled magnetron sputtering method. As a result, crystallinity and electrical properties of AZO thin films deposited by low voltage sputtering method were small changes in substrate positions compared with properties of AZO thin films deposited by DC magnetron sputtering method. Therefore, it was thought that RF-DC coupled magnetron sputtering method was a useful technique for improvements of the characteristic change in the film plane direction. | |
| キーワード | （和） | ZnO系透明導電膜 / RF-DC結合形スパッタ法 / 結晶性 / エロージョン / / / / |
| （英） | ZnO thin films / RF-DC coupled MS method / crystallinity / Erosion / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 111, no. 264, CPM2011-111, pp. 11-15, 2011年10月. | |
| 資料番号 | CPM2011-111 | |
| 発行日 | 2011-10-19 (CPM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | CPM2011-111 エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2011-111 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
| 開催期間 | 2011-10-26 - 2011-10-27 |
| 開催地（和） | 福井大学 産学官連携本部研修室 |
| 開催地（英） | Fukui Univ. |
| テーマ（和） | 薄膜プロセス・材料，一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2011-10-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | RF-DC結合形スパッタ法による室温成膜AZO薄膜の特性 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Properties of AZO Thin Films Deposited at Room Temperature by the RF-DC Coupled Magnetron Sputtering Method |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | ZnO系透明導電膜 / ZnO thin films |
| キーワード(2)（和/英） | RF-DC結合形スパッタ法 / RF-DC coupled MS method |
| キーワード(3)（和/英） | 結晶性 / crystallinity |
| キーワード(4)（和/英） | エロージョン / Erosion |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 樫出 淳 / Jun Kashiide / カシイデ ジュン |
| 第1著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 名越 克仁 / Katsuhito Nagoshi / ナゴシ カツヒト |
| 第2著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 富口 祐輔 / Yusuke Tomiguchi / トミグチ ユウスケ |
| 第3著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 清水 英彦 / Hidehiko Shimizu / シミズ ヒデヒコ |
| 第4著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 岩野 春男 / Haruo Iwano / イワノ ハルオ |
| 第5著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 川上 貴浩 / Takahiro Kawakami / カワカミ タカヒロ |
| 第6著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 永田 向太郎 / Kotaro Nagata / ナガタ コウタロウ |
| 第7著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | 福嶋 康夫 / Yasuo Fukushima / フクシマ ヤスオ |
| 第8著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） | 坪井 望 / Nozomu Tsuboi / ツボイ ノゾム |
| 第9著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
| 第10著者 氏名（和/英/ヨミ） | 野本 隆宏 / Takahiro Nomoto / ノモト タカヒロ |
| 第10著者 所属（和/英） | 新潟大学 (略称： 新潟大) Niigata University (略称： Niigata Univ.) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2011-10-26 13:50:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | CPM2011-111 |
| 巻番号（vol） | vol.111 |
| 号番号（no） | no.264 |
| ページ範囲 | pp.11-15 |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2011-10-19 (CPM) |
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