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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2011-11-29 13:00 ［招待講演］次世代LSIプロセス・材料開発に活きる超精密製造・計測技術開発 ～ 光技術と精密機械技術の協働による次世代原子スケール生産技術開拓 ～ ○久保田 弘・宗 勇樹・松川誠也（熊本大）・小坂光二・京谷忠幸（PMT）  CPM2011-157 ICD2011-89 エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2011-157 ICD2011-89 |
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| 抄録 | （和） | 熊本大学を中心に熊本地域で開発した非共振型超音波モーター技術は、削りかすパーティクルの出ない超精密長寿命性能の超音波モーターを実現させ、半導体等の精密製造・計測技術に新たな革命をもたらした。その量産技術への代表的な応用例として、触覚センサープロセス、グラフェン新材料開発、原子レベル酸化超薄膜欠陥検査について紹介し、次世代LSIプロセス・材料開発における日本の科学技術の方向性を示したい。 |
| （英） | Beyond the high-mix low-volume manufacturing era, advanced semiconductor production requires various kinds of products in large lots instead of the low-volume ones because the production line should keep running to realize the reduction of the cost by quantity output effect. The set of the individual products in the line should be converted quickly and reset dynamically. What we have to develop are, 1) fine NaPFA scales (nano-, pico-, femt-, atto-scales) syntheses and metrologies, 2)knowledge based IT techniques, e.g. virtual metrology, feed forward control, statistical fault detection. We present Ultra-precision measurement & fabrication technology by using of opto-mechanical methods. | |
| キーワード | （和） | 次世代LSI / 量産高度化 / 多品種量産 / 高信頼性 / 低コスト量産 / 原子レベル量産 / / |
| （英） | Next generation LSI / mass-production / atomic scale / production / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 111, no. 326, CPM2011-157, pp. 43-45, 2011年11月. | |
| 資料番号 | CPM2011-157 | |
| 発行日 | 2011-11-21 (CPM, ICD) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | CPM2011-157 ICD2011-89 エレソ技報アーカイブへのリンク：CPM2011-157 ICD2011-89 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | VLD DC IPSJ-SLDM CPSY RECONF ICD CPM |
| 開催期間 | 2011-11-28 - 2011-11-30 |
| 開催地（和） | ニューウェルシティ宮崎 |
| 開催地（英） | NewWelCity Miyazaki |
| テーマ（和） | デザインガイア2011 -VLSI設計の新しい大地― |
| テーマ（英） | Design Gaia 2010 -New Field of VLSI Design- |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2011-11-VLD-DC-SLDM-CPSY-RECONF-ICD-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 次世代LSIプロセス・材料開発に活きる超精密製造・計測技術開発 |
| サブタイトル（和） | 光技術と精密機械技術の協働による次世代原子スケール生産技術開拓 |
| タイトル（英） | Ultra-precision measurement & fabrication technology of LSI and its materials for the next generation. |
| サブタイトル（英） | Toward the atomic scale production applying novel opto-machanical methods |
| キーワード(1)（和/英） | 次世代LSI / Next generation LSI |
| キーワード(2)（和/英） | 量産高度化 / mass-production |
| キーワード(3)（和/英） | 多品種量産 / atomic scale |
| キーワード(4)（和/英） | 高信頼性 / production |
| キーワード(5)（和/英） | 低コスト量産 / |
| キーワード(6)（和/英） | 原子レベル量産 / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 久保田 弘 / Hiroshi Kubota / クボタ ヒロシ |
| 第1著者 所属（和/英） | 熊本大学 (略称： 熊本大) Kumamoto University (略称： Kumamoto Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 宗 勇樹 / Yuki Soh / ソウ ユウキ |
| 第2著者 所属（和/英） | 熊本大学 (略称： 熊本大) Kumamoto University (略称： Kumamoto Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 松川 誠也 / Seiya Matsukawa / マツカワ セイヤ |
| 第3著者 所属（和/英） | 熊本大学 (略称： 熊本大) Kumamoto University (略称： Kumamoto Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小坂 光二 / Kouji Kosaka / コサカ コウジ |
| 第4著者 所属（和/英） | 株式会社ピーエムティー (略称： PMT) PMT Corporation (略称： PMT) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 京谷 忠幸 / Tadayuki Kyotani / キョウタニ タダユキ |
| 第5著者 所属（和/英） | 株式会社ピーエムティー (略称： PMT) PMT Corporation (略称： PMT) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2011-11-29 13:00:00 |
| 発表時間 | 50分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | CPM2011-157, ICD2011-89 |
| 巻番号（vol） | vol.111 |
| 号番号（no） | no.326(CPM), no.327(ICD) |
| ページ範囲 | pp.43-45 |
| ページ数 | 3 |
| 発行日 | 2011-11-21 (CPM, ICD) |
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