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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2012-05-17 16:45 Ga2O3酸素センサの作製と評価 ○以西雅章・山本貴弘・鳥井琢磨（静岡大）  ED2012-25 CPM2012-9 SDM2012-27 |
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| 抄録 | （和） | あらまし 近年、環境問題に対する関心の高まりから、排気ガスの制御に酸素ガスセンサが注目されている。酸化ガリウムは900℃以上で酸素検知特性を持つことから、高温用酸素ガスセンサとして注目されている。そこで本研究ではβ-Ga2O3薄膜をRFマグネトロンスパッタリング法で生成した。本研究では、2種類の基板すなわち、Si(100)と石英基板上にβ-Ga2O3薄膜を生成し、酸素検知特性への影響について調べた。その結果、石英基板上に作製した酸素ガスセンサが優れた酸素検知特性を持つことが分かった。 |
| （英） | Abstract Recently, from a point of environmental problems, oxygen gas sensors attract attention of controlling the exhaust gas. The Ga2O3 has an oxygen detection characteristic at more than 900℃, so this material attracts much attention as an oxygen sensor at high temperature. The β-Ga2O3 films were prepared by the RF magnetron sputtering method. The influence of the two kinds of substrates, namely Si (100) and quartz to compare on the oxygen detection properties was evaluated. It was found that the oxygen gas sensor fabricated on a quartz substrate had superior oxygen detection characteristics than that on a Si substrate.. | |
| キーワード | （和） | 酸化ガリウム / 金属酸化物 / マグネトロンスパッタリング法 / 急速アニール / 酸素センサ / / / |
| （英） | Gallium oxide / Metal oxides / Magnetron sputtering method / Rapid thermal annealing(RTA) / Oxygen sensor / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 112, no. 33, CPM2012-9, pp. 39-42, 2012年5月. | |
| 資料番号 | CPM2012-9 | |
| 発行日 | 2012-05-10 (ED, CPM, SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | ED2012-25 CPM2012-9 SDM2012-27 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED SDM CPM |
| 開催期間 | 2012-05-17 - 2012-05-18 |
| 開催地（和） | 豊橋技術科学大学ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー |
| 開催地（英） | VBL, Toyohashi Univ. of Technol. |
| テーマ（和） | 結晶成長，評価及びデバイス（化合物，Si，SiGe，電子・光材料） |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2012-05-ED-SDM-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | Ga2O3酸素センサの作製と評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Preparation and evaluation of Ga2O3 oxygen sensors |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 酸化ガリウム / Gallium oxide |
| キーワード(2)（和/英） | 金属酸化物 / Metal oxides |
| キーワード(3)（和/英） | マグネトロンスパッタリング法 / Magnetron sputtering method |
| キーワード(4)（和/英） | 急速アニール / Rapid thermal annealing(RTA) |
| キーワード(5)（和/英） | 酸素センサ / Oxygen sensor |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 以西 雅章 / Masaaki Isai / イサイ マサアキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 山本 貴弘 / Takahiro Yamamoto / ヤマモト タカヒロ |
| 第2著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 鳥井 琢磨 / Takuma Tori / トリイ タクマ |
| 第3著者 所属（和/英） | 静岡大学 (略称： 静岡大) Shizuoka University (略称： Shizuoka Univ.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2012-05-17 16:45:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | ED2012-25, CPM2012-9, SDM2012-27 |
| 巻番号（vol） | vol.112 |
| 号番号（no） | no.32(ED), no.33(CPM), no.34(SDM) |
| ページ範囲 | pp.39-42 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2012-05-10 (ED, CPM, SDM) |
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