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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2012-05-18 13:50 電気化学堆積Cu2O薄膜へのH2O2処理 ○宋 瑛・市村正也（名工大）  ED2012-35 CPM2012-19 SDM2012-37 |
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| 抄録 | （和） | Cu2Oはヘテロ接合型太陽電池への光吸収層として応用されている。しかし、バンドギャップが太陽電池の最適値より大きいという欠点がある。本研究では、バンドギャップを制御するため、電気化学堆積のCu2O薄膜をH2O2 (30%)に浸して酸化した。Cu2O薄膜はCuSO4の水溶液(乳酸とKOH水溶液でpHを12.5に調整)を用い、40℃付近でガルバノスタットの電気化学堆積法でITOの上に堆積した。そして作製したCu2O薄膜を90℃まで加熱したH2O2(30%)中で10, 20 と 30分酸化処理を試みた。H2O2処理によってCu2O薄膜の酸素組成比を増加させ、バンドギャップを縮小させることができた。 |
| （英） | Cu2O is considered to be promising as an absorber layer material of solar cells, but its band gap is larger than the optimum one. Therefore, we attempted to oxidize Cu2O using H2O2 to increase oxygen ratio and decrease band gap. Cu2O thin films were deposited on indium-tin-oxide-coated glass from an aqueous solution containing CuSO4, lactic acid and KOH by the galvanostatic electrochemical deposition at 40ºC with current density of -1mA/cm2. Then, the as-prepared copper oxide thin film was dipped in H2O2 (30%) at 90ºC to oxidize for 10, 20 or 30 minutes. By the H2O2 treatment, the oxygen content was increased, and the band gap was decreased. | |
| キーワード | （和） | Cu2O薄膜 / H2O2処理 / 光吸収 / 組成比率 / / / / |
| （英） | Cu2O thin film / H2O2 treatment / photo-absorption / composition ratio / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 112, no. 33, CPM2012-19, pp. 91-94, 2012年5月. | |
| 資料番号 | CPM2012-19 | |
| 発行日 | 2012-05-10 (ED, CPM, SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | ED2012-35 CPM2012-19 SDM2012-37 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED SDM CPM |
| 開催期間 | 2012-05-17 - 2012-05-18 |
| 開催地（和） | 豊橋技術科学大学ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー |
| 開催地（英） | VBL, Toyohashi Univ. of Technol. |
| テーマ（和） | 結晶成長，評価及びデバイス（化合物，Si，SiGe，電子・光材料） |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2012-05-ED-SDM-CPM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 電気化学堆積Cu2O薄膜へのH2O2処理 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | H2O2 treatment of the Cu2O thin films deposited by the electrochemical method |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | Cu2O薄膜 / Cu2O thin film |
| キーワード(2)（和/英） | H2O2処理 / H2O2 treatment |
| キーワード(3)（和/英） | 光吸収 / photo-absorption |
| キーワード(4)（和/英） | 組成比率 / composition ratio |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 宋 瑛 / Ying Song / ソウ エイ |
| 第1著者 所属（和/英） | 名古屋工業大学 (略称： 名工大) Nagoya Institute of Technology (略称： Nagoya Inst. of Tech.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 市村 正也 / Masaya Ichimura / イチムラ マサヤ |
| 第2著者 所属（和/英） | 名古屋工業大学 (略称： 名工大) Nagoya Institute of Technology (略称： Nagoya Inst. of Tech.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2012-05-18 13:50:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | ED2012-35, CPM2012-19, SDM2012-37 |
| 巻番号（vol） | vol.112 |
| 号番号（no） | no.32(ED), no.33(CPM), no.34(SDM) |
| ページ範囲 | pp.91-94 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2012-05-10 (ED, CPM, SDM) |
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