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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2012-06-22 14:45 触媒反応生成高エネルギーH2Oを用いてガラス基板上に成長したZnO膜の特性 ～ スパッタ法によるバッファー層挿入効果 ～ ○小柳貴寛・里本宗一・佐藤 魁・加藤孝弘（長岡技科大）・片桐裕則・神保和夫（長岡高専）・安井寛治（長岡技科大）  EMD2012-10 CPM2012-27 OME2012-34 |
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| 抄録 | （和） | 白金ナノ粒子表面での水素と酸素の発熱反応を利用して高エネルギーH_2Oを生成、アルキル亜鉛ガスと衝突させ形成した高エネルギーZnOプリカーサを基板に供給、ZnO結晶膜を成長させた。透明導電膜への応用を目指し、ガラス基板上への成長におけるスパッタバッファー層の挿入効果を調べた。その結果、適切な厚さのスパッタバッファー層を挿入することで結晶配向性が改善すると共に、Hall移動度の値が大きくなりバッファー層挿入無しの膜に比べ低抵抗率の膜が得られた。 |
| （英） | ZnO thin films were grown through a reaction between dimethylzinc and high-energy H_2O produced by a Pt-catalyzed H_2 O_2 reaction. For the application of transparent conductive thin films, the ZnO films were grown on glass substrates with and without sputtered buffer layers deposited at 250˚C. By the insertion of the buffer layer with an appropriate thickness, crystal orientation along c-axis was improved. Optical transparency and electrical resistivity were also improved by the insertion of the buffer layer. | |
| キーワード | （和） | ZnO / 触媒反応 / CVD / ガラス基板 / X線回折 / 光透過率 / 抵抗率 / |
| （英） | ZnO / catalytic reaction / CVD / glass substrate / X-ray diffraction / optical transparency / resistivity / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 112, no. 96, CPM2012-27, pp. 13-18, 2012年6月. | |
| 資料番号 | CPM2012-27 | |
| 発行日 | 2012-06-15 (EMD, CPM, OME) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | EMD2012-10 CPM2012-27 OME2012-34 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | EMD CPM OME |
| 開催期間 | 2012-06-22 - 2012-06-22 |
| 開催地（和） | 機械振興会館 |
| 開催地（英） | Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. |
| テーマ（和） | 材料デバイスサマーミーティング |
| テーマ（英） | Summer meeting for materials and devices |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | CPM |
| 会議コード | 2012-06-EMD-CPM-OME |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 触媒反応生成高エネルギーH2Oを用いてガラス基板上に成長したZnO膜の特性 |
| サブタイトル（和） | スパッタ法によるバッファー層挿入効果 |
| タイトル（英） | Characteristics of ZnO films grown on glass substrates using high-energy H2O generated by a catalytic reaction |
| サブタイトル（英） | Effect of a sputter deposited buffer layer |
| キーワード(1)（和/英） | ZnO / ZnO |
| キーワード(2)（和/英） | 触媒反応 / catalytic reaction |
| キーワード(3)（和/英） | CVD / CVD |
| キーワード(4)（和/英） | ガラス基板 / glass substrate |
| キーワード(5)（和/英） | X線回折 / X-ray diffraction |
| キーワード(6)（和/英） | 光透過率 / optical transparency |
| キーワード(7)（和/英） | 抵抗率 / resistivity |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小柳 貴寛 / Takahiro Oyanagi / オヤナギ タカヒロ |
| 第1著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 (略称： 長岡技科大) Nagaoka University of Technology (略称： Nagaoka Univ. Technol.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 里本 宗一 / Souichi Satomoto / サトモト ソウイチ |
| 第2著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 (略称： 長岡技科大) Nagaoka University of Technology (略称： Nagaoka Univ. Technol.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 佐藤 魁 / Kai Sato / サトウ カイ |
| 第3著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 (略称： 長岡技科大) Nagaoka University of Technology (略称： Nagaoka Univ. Technol.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 加藤 孝弘 / Takahiro Kato / カトウ タカヒロ |
| 第4著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 (略称： 長岡技科大) Nagaoka University of Technology (略称： Nagaoka Univ. Technol.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 片桐 裕則 / Hironori Katagiri / ジンボ カズオ |
| 第5著者 所属（和/英） | 長岡工業高等専門学校 (略称： 長岡高専) Nagaoka National College of Technology (略称： Nagaoka Nat. College Technol.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 神保 和夫 / Kazuo Jimbo / ジンボ カズオ |
| 第6著者 所属（和/英） | 長岡工業高等専門学校 (略称： 長岡高専) Nagaoka National College of Technology (略称： Nagaoka Nat. College Technol.) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 安井 寛治 / Kanji Yasui / ヤスイ カンジ |
| 第7著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 (略称： 長岡技科大) Nagaoka University of Technology (略称： Nagaoka Univ. Technol.) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2012-06-22 14:45:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | CPM |
| 資料番号 | EMD2012-10, CPM2012-27, OME2012-34 |
| 巻番号（vol） | vol.112 |
| 号番号（no） | no.95(EMD), no.96(CPM), no.97(OME) |
| ページ範囲 | pp.13-18 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2012-06-15 (EMD, CPM, OME) |
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