講演抄録/キーワード |
講演名 |
2014-09-04 13:55
オフ角Si(001)基板上に形成したAlN層上へのSiCヘテロエピタキシャル成長 ○目黒一熙・成田次理・上村駿洋・中澤日出樹(弘前大) CPM2014-76 エレソ技報アーカイブへのリンク:CPM2014-76 |
抄録 |
(和) |
4ºオフ角Si(100)基板およびSi(110)基板上に、窒化アルミニウム(AlN)ターゲットを用いたレーザーアブレーション法によりAlN(0001)層を形成し、結晶性および表面モフォロジーを調べた。また、AlN層上にモノメチルシラン(CH3SiH3; MMS)を用いてSiC低温バッファ層を形成し、SiCターゲットを用いたPLD法によりSiCエピタキシャル成長を行った。薄膜の結晶性は反射高速電子線回折およびX線回折を用いて評価した。表面モフォロジーの評価には原子間力顕微鏡を用いた。4ºオフ角Si(100)基板上にAlN層を形成した場合、レーザー強度150 mJで形成したとき最も結晶性の良いAlNが得られた。さらに、AlN層上にSiC低温バッファ層およびSiC薄膜を作製することで、結晶性および平坦性の優れたSiC薄膜を得られた。また、Si(110)基板上にAlN層を形成した場合、結晶性が最も良好になるのは、レーザー強度150 mJ、基板温度750ºCおよび窒素圧力1 Paのときであった。 |
(英) |
We have grown aluminum nitride (AlN) films on 4º off-axis Si(100) and Si(110) substrates by pulsed laser deposition using an AlN target, and investigated the crystallinity and surface morphology of the grown films. We have also formed a SiC interfacial buffer layer on AlN/Si substrates at a low temperature by ultralow-pressure chemical vapor deposition using monomethylsilane (CH3SiH3; MMS), and grew 3C-SiC films on the buffer layer by pulsed laser deposition using a SiC target. The crystallinity of the films was evaluated by reflection high-energy electron diffraction and X-ray diffraction. The surface morphology of the films was observed by atomic force microscopy. We obtained the AlN layer with the best crystallinity on 4º off-axis Si(100) substrate at a laser intensity of 150 mJ. Moreover, we obtained the highly qualified SiC film with a smooth surface on the SiC buffer layer on the AlN layer. The AlN film with the best crystallinity was grown on Si (110) substrate at a laser intensity of 150 mJ, 750ºC, and a N2 pressure of 1 Pa. |
キーワード |
(和) |
窒化アルミニウム / シリコンカーバイド / ヘテロエピタキシー / レーザーアブレーション / / / / |
(英) |
Aluminum nitride / Silicon Carbide / heteroepitaxy / Pulsed laser deposition / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 114, no. 202, CPM2014-76, pp. 7-12, 2014年9月. |
資料番号 |
CPM2014-76 |
発行日 |
2014-08-28 (CPM) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
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